[实用新型]平板式辐射源

说明书

本实用新型涉及一种辐射加工用辐射源。

辐射加工用的钴源通常是棒状元件(简称源棒)，并按一定方式排布于不锈钢制成的平板状框架(简称源架)中，故称为平板辐射源(简称板源)。工作人员在贮源水井上方使用长柄夹具插取放置在水井中的源棒，进行排布操作。由于射线能量利用率和物品的吸收剂量不均匀度不仅与辐照物品的状况、辐照物品与板源的相对几何位置有关，而且受到源棒在源架上排布方式的影响。在一般的辐射源中源棒全部垂直放置或全部水平放置，通常会导致辐照物品的吸收剂量不均匀度增加，影响辐照质量和辐照效率的提高。所以，源棒在源架上的排布应该是能根据需要进行调整的。

针对上述问题，本实用新型的目的是提供一种可根据辐照需要，灵活变动源架中源棒排列位置，而且排布操作简便的平板式辐射源。

为实现上述目的，本实用新型采取以下设计：一种平板式辐射源，它包括源架、源架盖、滑轮、一组模块架、盖板、定位板和源棒，所述模块架顺序放在所述源架内，其中一部分所述模块架上具有横向固定的定位板，所述源棒垂直插设在所述定位板的固定孔中，所述盖板设置在所述模块架的顶部，其特征在于：其中另一部分模块架上具有纵向固定的定位板，所述源棒水平插设于所述定位板的固定孔中，所述盖板设置在所述模块架的侧面。

排布钴源时，将水平放置源棒的模块架提出源架后，旋转90°放入水井中的模块架固定装置中，打开盖板，垂直插放源棒后，盖上盖板，将模块架反向旋转90°，放回源架中。

本实用新型由于采用以上设计，其具有以下优点：1、由于一部分模块架采用水平放置源棒的方式，另一部分仍采用垂直放置方式，因此可以根据辐照物品的状况(密度、尺寸等)，辐照物品与板源的相对几何位置、源棒的数量、钴源的活度以及对射线能量利用率和吸收剂量不均匀度等情况，采取最优化排布设计，有效地保证了辐照质量和提高了辐照效率。2、由于采用源棒既可以垂直又可以水平放置的排布方式，每一模块架中放置源棒数量以及源棒间距又以可根据需要进行调整，因此能够克服源棒只能单方向放置所造成的辐照物品上部和下部吸收剂量较低，中部吸收剂量较高，辐照物品必须倒换位置的缺点，在有效地保证辐照质量的同时，减轻了劳动强度，提高了辐照效率。本实用新型结构简单，操作方便，它可以广泛用于各种辐射加工场合。

下面结合附图对本实用新型的实施例进行详细的描述。

图1是源架结构示意图

图2是图1的俯视示意图

图3是垂直放置源棒的模块架结构示意图

图4是图3的俯视示意图

图5是图3的右视示意图

图6是水平放置源棒的模块架结构示意图

图7是图6的俯视示意图

图8是图6的右视示意图

如图1、图2所示，现有的平板式源架1，其顶部具有一个源架盖2。源架盖2的一侧通过合页3枢接在源架1上，另一侧通过螺钉4控制的压板5固定连接在源架1上。使用时，松开螺钉4，打开压板5，掀起源架盖2，便可以向源架1内吊送模块架6。源架盖2顶部的滑轮7是源架1从水井中提升或降回时，升降机构使用的。如图3、图4、图5所示，现有的模块架6的定位板8是水平设置的，源棒9是垂直插放在三块定位板8的固定孔中，盖板10设置在模块架6的顶部。使用的时侯，将模块架6提出源架1，放在水井中的模块架固定装置上，垂直插换源棒9。如图6、图7、图8所示，本实用新型是在模块架6’上，垂直设置定位板8，源棒9是水平地插放在定位板8的固定孔中。将盖板10设置在模块架6’的侧面，定位板8和盖板10的安装方法，与垂直插放源棒9的模块架6基本相同。使用的时侯，将模块架6’提出源架1，旋转90°后放置在水井中的模块架固定装置上，打开盖板10，垂直插换源棒9，装好后盖上盖板10，将模块架6’反向旋转90°后，再放回源架1内。

上述实施例中，水平或垂直插放源棒9的模块架6、6’，在源架1中的排布位置可以根据需要进行调整。例如，在源架1中部放入垂直放置源棒9的模块架6，而在源架1上部和下部放入水平放置源棒9的模块架6’，就能使辐照物品的上中下各部位的吸收剂量比较均匀。

上述实施例中，在源架1中的模块架6上垂直插放的源棒9可以根据钴源的活度等情况加大或缩小间距，即不一定在每一个定位板8的固定孔中都插满源棒9。在源架1中的模块架6’上水平插放的源棒9，既可以有间隔地插放，又可以仅在靠近源架1中部的一边插放，而另一边空着，这需要根据被照射物品的尺寸等情况决定。