[发明专利]三唑并吡啶染料

说明书

本发明涉及式I的新型三唑并吡啶染料以及这些染料的热转印方法

式中

A为氮，

E为式C-R¹的基团，其中R¹为未取代的或取代的并可被1～4个氧原子间隔的C₁～C₂₀烷基、未取代的或取代的苯基、巯基或者未取代的或取代的C₁～C₂₀烷硫基，

Q为下式的基团，

式中

R²为可与苯稠合的五元或六元碳环基或杂环基，

R³为可被氧原子间隔的C₁～C₄烷基、C₁～C₄卤代烷基、C₁～C₄烷氧基羰基或者未取代的或取代的苯基，

R⁴为氰基、氨基甲酰基、羧基、C₁～C₄烷氧基羰基或苯并噻唑基，或者R³和R⁴一起构成稠合到苯环上的环的其余部分，

X为CH或氮，以及

R⁵为氧或下式基团C(CN)₂，或C(COOL)₂式中，L在每一情况下为可被1或2个氧原子间隔的C₁～C₈烷基，条件是，当Q为下式基团时，

两个基团A和E也可互换。

US-A-5079365公开了基于不同环系的三唑并吡啶染料。

本发明的目的是提供有不同化学结构的新型三唑并吡啶染料。这些染料易于制备。

我们已发现，通过本文开始时定义的式I三唑并吡啶染料可达到这一目的。

式I的染料可以各种互变形式出现，所有这些形式均包括在本发明权利要求范围内。例如R³为甲基和R⁵为氧的化合物可以如下互变形式出现：

R²为五元或六元碳环基或杂环基，它为未取代的或取代的，并可与苯稠合。

R²基团例如可由以下组分得到：苯，吲哚，喹啉，氨基萘，吡咯，氨基噻唑，苯并咪唑，苯并噻唑，氨基噻吩或二氨基吡啶。

重要的R²基团的例子是式IIa～IIj的基团

式中，

n为0或1，

Z¹为氢、可被1或2个氧原子间隔的C₁～C₈烷基、羟基、C₁～C₄烷氧基(特别是甲氧基或乙氧基)、甲酰氨基、C₁～C₄烷基磺酰氨基、C₁～C₄一或二烷氨基磺酰氨基或者-NHCOZ⁷或-NHCO₂Z⁷所示基团，其中Z⁷为苯基、苄基、甲苯基或可被1或2个氧原子间隔的C₁～C₈烷基，

Z²为氢、C₁～C₄烷基(特别是甲基)或C₁～C₄烷氧基(特别是甲氧基或乙氧基)，

Z³和Z⁴为相同的或不同的，各自独立地为氢、C₁～C₈烷基(未取代的或取代的，可被1或2个氧原子间隔)、C₃～C₄链烯基、C₅～C₇环烷基、未取代的或取代的苯基，或者与同它们相连的氮原子一起构成可含有另外杂原子的五元或六元饱和杂环基，

Z⁵为氢或C₁～C₄烷基(特别是甲基)，

Z⁶为氢、卤素、C₁～C₈烷基、未取代的或取代的苯基、未取代的或取代的苄基、环己基、噻吩基、羟基、C₁～C₄烷氧基、C₁～C₄烷硫基或C₁～C₈单氨基烷氨基。