[发明专利]用于在侧面暗沟中改进气体回流的设备和方法无效
| 申请号: | 94195084.0 | 申请日: | 1994-05-12 |
| 公开(公告)号: | CN1064855C | 公开(公告)日: | 2001-04-25 |
| 发明(设计)人: | M·A·布朗;E·O·伯格曼;R·赫西 | 申请(专利权)人: | F·B·利奥波特股份有限公司 |
| 主分类号: | B01D24/22 | 分类号: | B01D24/22;B01D24/38 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 任永武 |
| 地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 侧面 暗沟 改进 气体 回流 设备 方法 | ||
1.一种具有一过滤器底部和一位于在所述过滤器底部上的暗沟分配器的过滤系统,其特征在于,包括一配置在所述暗沟分配器上面的粒状过滤介质,一将液体向下通过所述粒状过滤介质,一将注体向下通过所述粒状介质到在过滤模式的暗沟分配器的方法,以及一个用以将气体引入所述暗沟分配器的回流器入口以向上通过在纯气体回流模式的粒状介质的回流气体入口,所述暗沟分配器包括:
多个限定一内部空腔的壁,所述壁包括一顶壁和一对在所述顶壁和所述过滤器底部之间延伸的侧壁;以及
所述顶壁有多个使所述内部空腔和一外部分配器相流通的尺寸一致,在同一平面无阻塞的分散小孔,所述分散小孔的尺理论和间距使所有所述小孔可有选择地分散纯液体回流,共同回流和纯气体回流、以在纯气体回流过程中提供足够的压头差以在所述顶壁下建立一气袋,
改进包括:
在所述分配器里至少有一使所述内部空腔与分配器外部相流通的液体回流管,所述液体回流管在所述多个小孔下的平面上包括一在所述内部空腔里的排放口,所述排放口的位置是使在所述气袋外部的液体回流到所述分配器内部而不会在纯气体回流过程中大大阻碍向上流通。
2.如权利要求1所述的改进,其特征在于,所述液体回流管包括一个在所述顶壁形成的槽,以及至少一个位于所述槽下部里与所述内部空腔相通的小孔。
3.如权利要求2所述的改进,其特征在于,所述槽的小孔位于所述内部空腔里的气袋下面。
4.如权利要求1所述的改进,其特征在于,所述液体回流管包括一延伸到所说内部空腔里的圆管。
5.如权利要求4所述的改进,其特征在于,所述的圆管从所述顶壁延伸到在所述内部空腔里的气袋下面的排放口。
6.如权利要求1所述的改进,其特征在于,所述液体回流管包括至少一个与位于所述侧壁之一的上部的内部空腔相通的小孔。
7.如权利要求6所述的改进,还包括一向下延伸与所述液体回流小孔紧邻的内部挡板,所述挡板的位置以遮档所述气袋与所述小孔直接相通。
8.如权利要求1所述的改进,包括多个将内部划分成至少一个主水平管道和至少一个辅助水平管道的内壁,至少一个所述分散小孔与所述辅助水平管道相通。
9.如权利要求8的所述改进,其特征在于,所述液体回流管包括一圆管,它从所述顶壁延伸到一个在所述辅助水平管道里的气袋以下的排放口。
10.如权利要求8所述的改进,其特征在于,所述液体回流管包括一在所述顶壁形成的槽,以及至少一个位于所述槽的下部并与所述辅助水平管道相通的小孔。
11.如权利要求8所述的改进,其特征在于,所述液体回流管道包括至少一个与位于所述侧壁之一的上部的内部空腔相通的小孔。
12.如权利要求1所述的改进,包括一与所述分配器的顶壁固定的多孔板,它与所说分散小孔和所述液体回流管道排放口垂直间隔。
13.如权利要求1所述的改进,其特征在于,所述分散小孔有一定尺寸和间距,所述液体回流管排放口的位置使所述气袋直接位于所有所述分散小孔下面,以及在所述气袋外面的所述液体可回到所述内部分配器而在气体回流流动速度从0.15m3/min/m2到约1.52m3/min/m2之间不会大大阻止气体回流流动。
14.一个用来排放和回流一种过滤层的单元,液体可被输送到过滤层并向下通过过滤层到一包括所述单元的暗沟系统,所述单元包括:
多个限定一内部空腔的外壁,所述外壁包括一顶壁、一底壁及一对在顶壁和所述底壁之间延伸的侧壁。
所述顶壁有许多尺寸一致,在同一平面非阻塞的分散小孔,它使所述内部空腔与所述单元的外部相通,所有在所述顶壁里的小孔定有尺寸和间距以有选择地分散纯气体回流、同时气体/液体回流以及纯液体回流。
所述分散小孔的尺寸和间距使在纯气体回流过程中在所述顶壁里每一分散小孔下直接形成气袋;以及
在所述单元里至少一个液体回流管,使流体在所述内部空腔与所述单元外部相通,所述液体回流管有一位于所述顶壁平面或顶壁以下的入口,以及在所述小孔下面的所述内部空腔内平面上的排放口,所述气袋外部的液体可回流到单元内部不会在纯气体回流过程中大大阻止气体回流。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于F·B·利奥波特股份有限公司,未经F·B·利奥波特股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/94195084.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:单面读出型两层式光盘及再生光头
- 下一篇:钢带的连续退火装置及其张力控制装置





