[实用新型]磁碟机磁头的清洁磁片

说明书

本实用新型涉及一种磁碟机磁头的清洁磁片。

一般习用之磁碟机磁头的清洁磁片，系为单纯之擦拭磁头用材质所构成，通常为纸质或不织布，并无记录资料之功能。

习用清洁片之使用方法如下：

使用者将习用清洁片插入磁碟机后，启动磁碟机马达，习用清洁片随之旋转，于是，触靠于习用清洁片上之磁头得以被擦拭。由于无法得知磁头是否已擦拭清洁，故使用者仅能依赖经验判断，于自认恰当之时机停止擦拭。此时，磁头未必确已擦拭清洁。因此，使用者尚须作进一步确定，但习用清洁片之芯片一如前述，并无记录功能，其上既无资料存在，亦无法再写入资料。因此，使用者须先抽出习用清洁片，换置正常磁片后，再用键输入读写之指令，若一切正常，便可认定磁头已清洁，随即结束擦拭磁头之工作。若仍无法读写资料，则须从头再试，即：先抽出正常磁片，重新插入习用清洁片擦拭，如此一再尝试猜测直至磁头恢复读写功能为止。以上之操作过程，往往须不厌其烦的更换习用清洁片与正常磁片；当磁头已清洁，无污物附着，欲误为尚未清洁而继续擦拭时，因无污物为缓冲，习用清洁片将直接在磁头上摩擦，此又可能对磁头造成多余之摩耗与损伤。

本实用新型的目的在于克服上述现有技术中的缺点而提出一种新颖的磁碟机磁头的清洁磁片。

本实用新型的目的是这样实现的，即提供一种磁碟机磁头的清洁磁片，包含有圆盘状芯片及保护外壳，芯片中心有钳夹孔，可供磁碟机之钳夹机构夹持，以带动芯片旋转，其中芯片系分为二个环状区域，内环为磁性记忆体，可供磁头读写资料；外环由擦拭材质构成，可供擦拭磁头。

本实用新型的清洁磁片兼具记忆及擦拭磁头的功能，配合恰当的控制程序，确实可达到简化清洁磁头之实用效能。

以下将结合附图对本实用新型作详细描述，图中：

图1是本实用新型的清洁磁片的立体分解图；

图2是本实用新型的清洁磁片的正视图；

图3是图2的3－3剖面图（垂直方向的厚度比例已放大）；

图4是磁头与叠合区的放大示意图；

图5是清洁磁片执行清洁磁头时的终端显示画面。

首先请参阅图1、2和3所示，本实用新型的清洁磁片的构造为一圆盘薄片，外有矩形外壳包覆。圆盘中央有钳夹孔5以适应磁碟机旋转时夹持之需要，或用以容纳适于磁碟机夹持之所需配体。钳夹孔5附近有一索引孔4，使某些磁碟机得以藉此孔索引磁区而正常工作。圆盘之内圈为磁性记忆体3，其构成与一般磁片相仿：以高分子为基材，其上涂布磁粉，并有适当之保护层及润滑层。磁性记忆体3之磁粉可被磁头所加之磁场磁化而产生记录资料之功能。圆盘之外圈为擦拭圈1，擦拭圈1之主要功用在擦拭磁头，为一具有恰当宽度之圆环状薄片，由上、下二片擦拭材料贴合而成（参阅图3）。擦拭材料为柔而韧、含水性佳之薄材，与磁头摩擦时不易损伤磁头。叠合区2为擦拭圈1粘合在磁性记忆体3上所重叠之环形区域。操作时，磁头将避免在此区停留。

再请阅图4，在叠合区2与磁性记忆体3之交界处，由芯片圆心往边缘移出之方向上有一突升之断面，是擦拭圈1粘合于磁性记忆体3上所形成。此突升断面是否对磁头之移动造成阻碍，端视突升之高度而定。在实际之应用上，为使本实用新型的清洁片顺利旋转，擦拭圈1之厚度不宜与正常磁片厚度相距过大。一般磁片之厚度约在80微米（μM）左右。因此，擦拭圈1之厚度按上述原则必不超过40微米，此即最大可能突升高度。在磁头方面：通常机械构造为避免“应力集中”现象，在物体两相交面转角片处均设有倒角或圆角。而磁头6因须在磁片上滑移，其接触面与其他四个垂直面间之转角被设计成具有倒角或圆角之形状，更是理所当然之事，且其圆角半径（R）至少在数百微米以上。突升断面之高度与此圆角半径（R）相较显已微不足道，全无阻碍磁头移动之疑虑。叠合区2之厚度较其他区域为大，但因所占面积比例甚小，其宽度仅须确实达成粘合目的所需即足，对磁芯片旋转之顺畅并无明显影响。当磁头滑越此区时，磁碟机上的磁头悬挂机构将会吸收此一微小之厚度变化，不致影响磁碟机之正常操作。

本实用新型的清洁片之使用方法，说明如下：