[发明专利]记录介质无效
| 申请号: | 90103892.X | 申请日: | 1990-05-23 |
| 公开(公告)号: | CN1020821C | 公开(公告)日: | 1993-05-19 |
| 发明(设计)人: | 布赖恩·K·克拉克;舍里耶·L·约翰逊;罗伯特·格拉 | 申请(专利权)人: | 坦迪公司 |
| 主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24 |
| 代理公司: | 上海专利事务所 | 代理人: | 张恒康 |
| 地址: | 美国得*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 记录 介质 | ||
1、一种记录介质,它包括:
a)一基片;
b)一毗连所述基片的膨胀区,所述膨胀区在具有一写波长的写光束照射下而得到局部加热膨胀,以在其上形成一可检测的凸缘;和
c)一毗连所述膨胀区的、用于接纳由所述膨胀区膨胀引起的一容积的装置,接纳装置包括在所述记录介质的操作温度上的一液体或蒸汽层或对入射光束的反射能力大于25%的软反射层。
2、根据权利要求1所述的一种记录介质,其特征在于,所述膨胀区为一膨胀层。
3、根据权利要求2所述的一种记录介质,其特征在于,还包括一记忆层,所述记忆层设置在所述膨胀层和所述液体或蒸汽层或软反射层之间或毗连所述液体或蒸汽层或软反射层,所述记忆层在所述写光束停止照射后保持所述可检测的凸缘,且在具有一抹波长的抹光束照射下消除所述凸缘。
4、根据权利要求1所述的一种记录介质,其特征在于,所述膨胀区为一活性层,所述活性层在具有一抹波长的抹光束照射下回缩成一平面状态。
5、根据权利要求4所述的一种记录介质,其特征在于,所述液体或蒸汽层是足够薄,使所述可检测的凸缘穿透所述液体或蒸汽层。
6、根据权利要求3所述的一种记录介质,其特征在于,将所述膨胀层与所述记忆层相比较,吸收所述抹光束的比率约在1∶10和10∶1之间。
7、根据权利要求6所述的一种记录介质,其特征在于,将所述膨胀层与所述记忆层相比较,吸收所述抹光束的比率约在1∶5和5∶1之间。
8、根据权利要求7所述的一种记录介质,其特征在于,将所述膨胀层与所述记忆层相比较,吸收所述抹光束的比率约在1∶2和2∶1之间。
9、根据权利要求8所述的一种记录介质,其特征在于,将所述膨胀层与所述记忆层相比较,吸收所述抹光束的比率约为1∶1。
10、根据权利要求1所述的一种记录介质,其特征在于,所述接纳装置厚度约在0.5和1.5微米之间。
11、根据权利要求10所述的一种记录介质,其特征在于,所述接纳装置的厚度约为1微米。
12、根据权利要求1至5中任一所述的一种记录介质,其特征在于,所述液体或蒸汽层是对入射光束的反射能力大于25%的反射层。
13、根据权利要求1至5中任一所述的一种记录介质,其特征在于,所述液体或蒸汽层包括一金属层。
14、根据权利要求1至5中任一所述的一种记录介质,其特征在于,所述液体或蒸汽层包括一种从由水银、镓、铯、铷、铋、镓合金、铟合金、铋合金和其混合物组成的组中选择的材料。
15、根据权利要求1至5中任一所述的一种记录介质,其特征在于,所述液体或蒸汽层包括约70至100%镓、约0至30%铟和约0至20%锡。
16、根据权利要求3或4所述的记录介质,其特征在于,所述凸缘上的软反射层变得足够薄,以透射至少约10%的读光束。
17、根据权利要求16所述的一种记录介质,其特征在于,所述可检测的凸缘完全穿透所述软反射层。
18、根据权利要求16所述的一种记录介质,其特征在于,所述软反射层包括一液体或蒸汽层。
19、根据权利要求16所述的一种记录介质,其特征在于,所述软反射层包括一种从由水银、镓、铯、铷、铋、镓合金、铟合金、铋合金和其混合物组成的组中选择的材料。
20、根据权利要求16所述的一种记录介质,其特征在于,所述软反射层包括一种从由铝、铟、锡、金、铝合金、铟合金、锡合金、金合金和其混合物组成的组中选择的材料。
21、根据权利要求16所述的一种记录介质,其特征在于,所述软反射层在所述凸缘上足够薄,以透射至少约20%的所述读光束。
22、根据权利要求21所述的一种记录介质,其特征在于,所述软反射层在所述凸缘上足够薄,以透射至少约30%的所述读光束。
23、根据权利要求16所述的一种记录介质,其特征在于,所述反射层足以允许至少10%读光束透射的厚度小于约1000。
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