[其他]取代的4-苯甲酰基-3，5-二氧代四氢吡喃和4-苯甲酰基-3，5-二氧代四氢噻喃

说明书

已经转让日本纯碱厂（Nippon    Soda）的日本专利No.85/024793中论及某些氧杂环己烯衍生物，这些化合物是具有如下结构式的中间体

其中R是低级烷基，R是氢或低级烷基及R是低级烷基。

本发明是关于某些被取代的4-苯甲酰基-3，5-二氧四氢呋喃和4-苯甲酰基-3，5-噻喃及它们作为除草剂的应用。

本发明的实施方案之一是包含一种加以除草活性的4-苯甲酰基-3，5-二氧四氢呋喃和4-苯甲酰基-3，5-噻喃及其所用惰性载体的除草组合物。二酮环的位置2和位置6最好能被下文所述的基团所取代。最好二酮环没有取代基，或是在2位或6位置被1个或2个甲基基团所取代。苯甲酰基的这一部分最好能用下述基团取代。

在本发明范围内尚包括具有如下结构式的新型化合物

其中X是氧、硫或硫酰（SO₂）;

R是囟素;C₁-C₂烷基，最好是甲基;C₁-C₂烷氧基，最好是甲氧基;硝基;氰基;C₁-C₂囟代烷基，最好是三氟甲基;或R^aSO_m-，其中m是0或2，最好是2，而R^a是C₁-C₂烷基，最好是甲基。最好，R是氯，溴，C₁-C₂烷基，C₁-C₂烷氧基，三氟甲基，氰基、硝基，C₁-C₂硫代烷基或C₁-C₂烷基硫酰;最佳是氯，硝基，甲基，三氟甲基或甲基磺酰;而

R¹是氢或C₁-C₄烷基，C₁-C₂烷基较好，以甲基为佳;R¹是氢或甲基最佳;

R²是氢或C₁-C₄烷基，C₁-C₂烷基较佳，以甲基更佳;R²是氢或甲基最佳;或

R¹和R²都是有2至5个碳原子的亚烷基;

R³是氢或C₁-C₄烷基，C₁-C₂烷基较好，甲基更好;R³是氢或甲基最好。

R⁴是氢或C₁-C₄烷基，C₁-C₂烷基较好，甲基更好;R⁴是氢或甲基最好;或

R³和R⁴都是有2个至5个碳原子的亚烷基;

R⁵和R⁶可以分别是（1）氢;（2）囟素，最好是氯，氟或溴;（3）C₁-C₄烷基，最好是甲基;（4）C₁-C₄烷氧基，最好是甲氧基;（5）三氟甲氧基;（6）氰基;（7）硝基;（8）C₁-C₄囟代烷基，三氟甲基更佳;（9）R^bSOn-，其中n是整数0，1或2，最好是2;而

R^b是（a）C₁-C₄烷基，最好是甲基;

（b）用囟素或氰基取代的C₁-C₄烷基，最好是氯代甲基，三氟甲基或氰甲基;

（c）苯基;或

（d）苄基;

（10）-NR^cR^d其中R^c和R^d可分别是氢或C₁-C₄烷基;

（11）R^eC（O）-其中R^e是C₁-C₄烷基或C₁-C₄烷氧基;