[其他]高强度发射装置

权利要求书

1、一种产生高强度发射的装置，包括一细长圆柱形电弧室、同轴置于所述电弧室内的第一及第二电极构件、将液体注入所述电弧室、通过冷却所述弧光放电的周缘集聚弧光放电的液体涡流发生构件、把涡旋运动的气流通过所述圆柱形液壁的内部注入所述室内的构件，以及置于所述液体涡流发生构件内的环形涡流限制构件，该构件工作时，可以在所述液体注入所述电弧室时减少宏观紊流。

2、如权利要求1所述的装置，其中，所述液体涡流发生构件包括一液体注射构件和围绕所述环形涡流限制构件外圆周的空腔构件。

3、如权利要求2所述的装置，其中，所述空腔构件的横截面面积，完全根据所述空腔至所述液体注射构件的环形距离而减小。

4、如权利要求2所述的装置，其中，所述环形涡流限制构件在邻近所述液体涡流发生构件涡流室构件处限定出了一圆周形的通道。

5、如权利要求4所述的装置，其中，所述通道的圆周与邻近所述涡流室构件的所述环形涡流限制构件的圆周基本一致。

6、如权利要求5所述的装置，进一步包括从所述液体涡流发生构件沿所述第一电极伸出的喷嘴构件，所述喷嘴构件的外圆周基本上与所述圆柱形液壁的平衡状表面接近，其距离为一允许所述液体和气体基本产生涡旋运动的长度。

7、一种产生高强度发射的装置，包括一细长圆柱形电弧室、同轴置于所述电弧室两端的第一及第二电极构件、在所述电弧室的外圆周上从所述第一电极至第二电极形成圆柱形液壁的液体涡流发生构件、将气体注入位于所述圆柱形液壁之内的所述电弧室中的气体注射构件。以及自所述液体涡流发生构件沿所述第一电极伸出一段距离的喷嘴构件，所述喷嘴构件的外圆周基本上与所述圆柱形液壁的平衡状表面接近，其距离为一允许所述液体和气体基本产生涡旋运动的长度。

8、如权利要求7所述的装置，其中，所述惰性气体被注入位于喷嘴构件的内径和所述第一电极的外圆周之间的所述电弧室内，而所述液体则被注入位于所述喷嘴构件外面的所述电弧室内。

9、一种产生高强度发射的装置，包括一细长圆柱形电弧室、同轴置于所述电弧室两端的第一及第二电极构件、邻近所述第一电极，在所述电弧室的内圆周上形成一液体涡流壁的液体涡流发生构件、将气体注入位于所述第一及第二电极之间的电弧室内、使之自所述第一电极至所述第二电极作涡旋运动的气体注射构件，以及邻近第二电极的液体、气体接收构件，所述第二电极上至少装有一个翅片，该翅片在所述电弧室内伸开、沿液体和气体流动方向限定出了一个相对无阻的通道，所述翅片在所述电弧室内还限定出了一个当所述液体、气体沿着与所述液体、气体流相反方向运动时的阻挡性通道。

10、如权利要求9所述的装置，其中，所述液体和气体接收构件包括一个自主要接收区至排放区均匀地扩大的渐扩室。

11、如权利要求10所述的装置，其中，所述阳极在接近所述阳极头处有第一组相对较小的翅片，在接近所述阳极的中部有第二组相对较大的翅片。

12、如权利要求11所述的装置，进一步包括一装于所述电极内的出口喷嘴，工作时，可将液体排至所述排放区。