[其他]固态非催化接触材料富铝红柱石/晶态二氧化硅及其应用无效
| 申请号: | 85108865 | 申请日: | 1985-12-14 |
| 公开(公告)号: | CN85108865A | 公开(公告)日: | 1986-07-09 |
| 发明(设计)人: | 威廉姆·J·里根;戴维德·W·怀特;威廉姆·R·舒尔茨;L·阿兰·扎纳格英 | 申请(专利权)人: | 恩格尔哈德公司 |
| 主分类号: | C10G25/09 | 分类号: | C10G25/09;C10G25/11;C10G25/12;C10G9/32 |
| 代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人: | 孙令华,李雒英 |
| 地址: | 美国新泽*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 固态 催化 接触 材料 富铝红 柱石 晶态 二氧化硅 及其 应用 | ||
1、定形的大孔的实体,该实体含有富铝红柱石及晶态二氧化硅,并且耐磨,基本上不溶于酸。
2、权利要求1所述的实体,其中除了在所述富铝红柱石内含有氧化铝外,还含有少量不溶于酸的氧化铝。
3、权利要求1所述的实体,其中基本上所有的二氧化硅都出现在富铝红柱石和晶态二氧化硅之中,并且基本上所有的氧化铝都出现在富铝红柱石或富铝红柱石与酸不溶氧化铝的混合物中,在所述实体的分析组成中,至少有95%(以重量计)的SiO2及Al2O3。
4、权利要求1所述实体,该实体是以可流态化的微球粒形式出现的。
5、权利要求4所述的微球粒,其中孔径大于1000埃的孔占支配地位,基本上没有孔径小于100埃的孔。
6、权利要求5所述的微球粒,其总孔隙容积低于0.1立方厘米/克。
7、权利要求4所述的微球粒,其EAI值低于2%/秒。
8、权利要求4所述的微球粒,其EAI值在1%/秒以下。
9、权利要求4所述的微球粒,其BET表面积在20m2/g以下。
10、权利要求4所述的微球粒,其富铝红柱石指数至少为45。
11、权利要求4所述的微球粒,当附着金属为8%重量(镍和钒),钒/镍重量比为4/1,并以在上文所述的静态聚结法测试时,其抗聚结性低于25左右。
12、权利要求1所述的微实体,该实体是可流态化的微球粒,其成分至少有95%(重量)是结合的SiO2/Al2O3,所述微球粒主要包括富铝红柱石晶体和晶态的二氧化硅,在所述的微球粒中基本上所有的二氧化硅都存在于富铝红柱石和晶态二氧化硅中,基本上所有的氧化铝都存在于富铝红石柱或富铝红柱石/酸不溶氧化铝中,实体的EAI值低于1%/秒,表面积小于5m2/g,总孔隙容积低于0.1立方厘米/克,其中大多数孔径大于1000埃。
13、权利要求12所述的微球粒,其堆积密度范围为1.1到1.5克/立方厘米。
14、权利要求13所述的微球粒,该微球粒的SiO2/Al2O3摩尔比约为2,系用含有高纯度高岭粘土的微球粒焙烧制得的,焙烧温度和时间足以使微球粒的富铝红柱石指数高于50,并含有相当数量的晶态二氧化硅(用X-射线衍射测定)。
15、权利要求12所述的微球粒,该微球粒的SiO2/Al2O3摩尔比约为1/2,系用含有高纯度兰晶石的微球粒,在一定的温度和足够的时间焙烧而制得的,该焙烧条件使制得的微球粒的富铝红柱石指数高于45,并含有相当数量的晶态二氧化硅。
16、权利要求12所述的微球粒,该微球粒的SiO2/Al2O3摩尔比小于2,系用包括高纯度高岭粘土及少量高纯度焙烧过的氧化铝或水合氧化铝的混合物在一定温度及足够的时间内焙烧制成的,该焙烧条件足以形成晶态富铝红柱石,晶态二氧化硅和晶态氧化铝,
17、权利要求12所述的微球粒,其EAI值为0.5%/秒或小于0.5/秒。
18、制备作为接触介质而用于从烃原料中除去金属及含碳杂质过程的氧化铝/二氧化硅定形实体的方法,该方法包括:使受热能转化为富铝红柱石和游离二氧化硅无机材料与短效的粘结剂混合,并使之形一种密块,然后把所该密块制成定形的实体,在某一温度和足够的时间内焙烧该实体,该焙烧条件足以基本上使全部的二氧化硅转化为富铝红柱石及晶态二氧化硅,回收该实体而不会浸提出二氧化硅或氧化铝,也不会磨碎或改变所述实体的形状。
19、权利要求18所述的方法,其中所说的密块不含外加的含碳物料,当焙烧所述实体时,含碳的物料会形成空隙。
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