[实用新型]铝扁锭液面自动控制系统有效

专利信息
申请号: 202320028824.4 申请日: 2023-01-06
公开(公告)号: CN219112841U 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 周文全;侯得元;张宗显 申请(专利权)人: 郑州市豫中铝镁装备有限公司
主分类号: B22D11/18 分类号: B22D11/18;B22D41/20;B22D2/00
代理公司: 郑州龙腾盛世专利代理事务所(普通合伙) 41174 代理人: 徐园园
地址: 450041 河南省郑*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 铝扁锭 液面 自动控制系统
【说明书】:

实用新型铝扁锭液面自动控制系统,涡流传感器检测结晶器内液面实时高度计入液面高度预判电路,经稳压、滤波后,进入放大器进行调幅,之后经迟滞比较器与设定值进行迟滞比较,结晶器内液面实时高度在设定值附近波动时,输出低电平,否则输出高电平,高电平延时触发晶闸管VTL1导通,继电器K1延时得电,继电器K1常开触点K1‑1闭合,在继电器K1常开触点K1‑1闭合时,流量传感器检测的孔隙流量进入流量偏差计量电路,与涡流传感器检测的实时的结晶器内铝液液面高度耦合加到差动放大器的输入一端,差动放大器的输入另一端接入设定值信号,计算出流量偏差值后进入PLC系统,PLC系统直接根据偏差值,调节伺服驱动塞棒,能及时精确控制保持在设定液面高度。

技术领域

本实用新型涉及铝合金扁锭铸造技术领域,特别是铝扁锭液面自动控制系统。

背景技术

现有技术通过设置涡流传感器或CCD传感器、PLC系统、伺服驱动的塞棒,涡流传感器检测结晶器内液面实时高度或CCD传感器计算出液面位移量,传输到PLC系统,经过PLC实时计算,通过伺服电机驱动塞棒,精确控制流槽液面高度,控制塞棒上下调节,控制塞棒与下铸管之间的孔隙,进而控制流入结晶器的铝熔体的体积,实现结晶器内液面精确控制。

但其传输的都是液面实时高度信号,没有进行液面高度预处理,也没有进行诸如孔隙的流量检测,无法直接产生偏差量到PLC系统,结晶器内液面高度难以控制在小的动态范围内波动,依旧会造成不能及时精确控制的问题。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足,本实用新型目的是提供铝扁锭液面自动控制系统,有效的解决了现有液面控制,依旧会造成不能及时精确控制的问题。

其解决的技术方案是,包括流量传感器、液面高度预判电路、流量偏差计量电路,所述涡流传感器检测结晶器内液面实时高度计入液面高度预判电路,流量传感器检测的孔隙流量进入流量偏差计量电路,液面高度预判电路连接流量偏差计量电路,流量偏差计量电路连接PLC系统;

所述液面高度预判电路包括稳压管VD1、电感L1,稳压管VD1的负极、电感L1的左端连接涡流传感器输出的模拟信号,电感L1的另一端分别连接接地电容C1的一端、电阻R2的一端,稳压管VD1的正极连接地,电阻R2的另一端连接运算放大器AR1的同相输入端,运算放大器AR1的反相输入端分别连接接地电阻R1的一端、电阻R3的一端,运算放大器AR1的输出端分别连接电阻R3的另一端、电阻R4的一端,运算放大器AR1的VCC端连接电源+5V,运算放大器AR1的GND端连接地,电阻R4的另一端连接运算放大器AR2的同相输入端,运算放大器AR2的反相输入端分别连接电阻R5的额一段、三极管Q3的发射极、电位器RP1的上端和可调端,电位器RP1的下端连接地,电阻R5的另一端和三极管Q3的集电极连接电源+5V,运算放大器AR2的输出端分别连接三极管Q3的基极、电阻R6的一端,电阻R6的另一端分别连接接地电容C2的一端、晶闸管VTL1的控制极,晶闸管VTL1的阳极连接电源+15V,晶闸管VTL1的阴极分别连接继电器K1线圈的一端、电阻R7的一端,电阻R7的另一端连接电容C6的一端,继电器K1线圈的另一端和电容C6的另一端连接地;

所述流量偏差计量电路包括继电器K1常开触点K1-1,继电器K1常开触点K1-1的上端连接流量传感器检测的流量信号,继电器K1常开触点K1-1的下端连接电阻R8的一端,电阻R8的另一端分别连接接地电容C3的一端、三极管Q1的基极、运算放大器AR2的同相输入端,三极管Q1的集电极连接电阻R9的一端,三极管Q1的发射极连接电位器RW1的左端,电位器RW1的可调端连接接地电阻R10的一端,电位器RW1的右端连接三极管Q2的发射极,三极管Q2的基极分别连接接地电阻R12的一端、电阻R11的一端、接地电容C4的一端,电阻R11的另一端连接运算放大器AR1的输出端,三极管Q2的集电极分别连接电位器RW2的下端、二极管D1的负极、电感L2的一端,电位器RW2的上端和可调端、电阻R9的另一端连接电源+12V,电感L2的另一端和接地电容C5的一端连接PLC系统。

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