[发明专利]一种基于二维材料的可重复读写方法

权利要求书

1.一种基于二维材料的可重复读写方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1、将原材料制备成微观平整的二维材料；

S2、通过原子力显微镜的接触模式对二维材料进行扫描，对二维材料的摩擦力进行表征，得到纳米黑板和扫描区域的初始摩擦力；

S3、通过原子力显微镜的敲击模式对纳米黑板进行扫描，在不改变二维材料形貌下改变纳米黑板的表面接触质量，实现图样刻印，并得到刻印后的纳米黑板；

S4、使用原子力显微镜的接触模式对刻印后的纳米黑板进行扫描，得到含有图像信息的摩擦力图，实现图样读取；

S5、通过原子力显微镜的侧向力模式对刻印后的纳米黑板整体进行多次横向扫描，使扫描区域的摩擦力恢复到初始摩擦力，实现可重复读写。

2.根据权利要求1所述基于二维材料的可重复读写方法，其特征在于，所述步骤S1具体为通过机械剥离法，将原材料附着在硅基底上，并通过金相显微镜找出规则薄层，得到样貌平整的二维材料。

3.根据权利要求1所述基于二维材料的可重复读写方法，其特征在于，所述步骤S2中的纳米黑板为原子力显微镜的接触模式在二维材料上的扫描区域。

4.根据权利要求1所述基于二维材料的可重复读写方法，其特征在于，所述步骤S3中具体为利用原子力显微镜的敲击模式，通过设定不同的扫描尺寸及比例，对纳米黑板进行多次扫描，改变纳米黑板上不同区域的接触质量，在纳米黑板上进行图样刻印，得到刻印后的纳米黑板。

5.根据权利要求1所述基于二维材料的可重复读写方法，其特征在于，所述步骤S5具体为通过原子力显微镜的侧向力模式对刻印后的纳米黑板整体进行多次横向扫描，改变扫描区域的表面接触质量，使扫描区域的摩擦力恢复到初始摩擦力，从而清除刻印的图样，实现二维材料的可重复读写。