[发明专利]一种基于图像处理的微结构加工误差计算方法在审

专利信息
申请号: 202310640930.2 申请日: 2023-06-01
公开(公告)号: CN116659382A 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 罗倩;高国涵;杜俊峰 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00;G01B11/02;G01B11/22;G01B11/24;G06T7/00;G06T7/13;G06T7/60
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 孔伟
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 图像 处理 微结构 加工 误差 计算方法
【权利要求书】:

1.一种基于图像处理的微结构加工误差计算方法,所述微结构加工误差包括深度误差、线宽误差和套刻误差,其特征在于,包括如下步骤:

步骤一:在被测的微结构上做辅助检测标记点位;

步骤二:采用白光干涉仪对所有标记点位附近的图形区台阶轮廓进行检测,获得相应位置的三维轮廓数据;

步骤三:将步骤二的三维轮廓数据沿台阶切面方向截得多根截线,该多根截线上的台阶的深度值和线宽值求取平均值,得到每个点位的实测的深度值和线宽值;

步骤四:每个点位上实测的深度值和线宽值与设计值相比计算出每个点位上的深度误差和线宽误差,并计算出所有点位的深度误差和线宽误差的平均值得到该微结构的深度误差和线宽误差;

步骤五:将步骤二的三维轮廓数据俯视方向做投影,得到台阶边缘线段图,拟合该线段图,沿边缘线段的垂直方向取多条截线,得到每一条截线在每一个周期内的截距,多条截线的平均截距得到该点位每个周期内台阶的线宽值,台阶数为2n,干涉仪的测量范围内为多个周期;

步骤六:求出每一个周期内当前台阶和前层台阶之间的线宽值之差,将以上差值平均得到该周期内的套刻误差,将多个周期的套刻误差取平均可得到该点位的套刻误差,根据所有点位的套刻误差取平均得到该微结构的套刻误差。

2.根据权利要求1所述的一种基于图像处理的微结构加工误差计算方法,其特征在于:步骤一设置的标记点位图可根据被测微结构的大小与检测精度需求,设置密集或稀疏。

3.根据权利要求1所述的一种基于图像处理的微结构加工误差计算方法,其特征在于:步骤三及步骤五中均取3根以上截线。

4.根据权利要求1所述的一种基于图像处理的微结构加工误差计算方法,其特征在于:所述步骤三的截线为整数的均分线位置。

5.根据权利要求1所述的一种基于图像处理的微结构加工误差计算方法,其特征在于:所述台阶数为2n,优选4、8、16。

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