[发明专利]一种自润滑的滚珠结构超低摩擦副在审
申请号: | 202310599842.2 | 申请日: | 2023-05-25 |
公开(公告)号: | CN116576193A | 公开(公告)日: | 2023-08-11 |
发明(设计)人: | 李永波;周苏琴;李涛 | 申请(专利权)人: | 扬州市泰克管道机械有限公司 |
主分类号: | F16C29/04 | 分类号: | F16C29/04;F16C33/40;F16C33/42;F16C33/58;F16C33/66;F16C43/06;F16C35/06 |
代理公司: | 南京金宁专利代理事务所(普通合伙) 32479 | 代理人: | 阮程燕 |
地址: | 225000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 润滑 滚珠 结构 摩擦 | ||
本发明公开了一种自润滑的滚珠结构超低摩擦副,涉及自润滑的滚珠结构技术领域,本发明包括摩擦副组件,摩擦副组件上部设有上连接组件,摩擦副组件下部设有下连接组件,摩擦副组件包括保持架,保持架上开设有若干圆形通孔,每个圆形通孔上下两端开设有环形凹槽,相邻两个环形凹槽之间开设有缺口,缺口与相邻两个环形凹槽贯通连接,圆形通孔内活动设有滚珠,滚珠直径小于圆形通孔中部内径,环形凹槽内壁设有冲压块,冲压块的个数为四个,四个冲压块围绕圆形通孔中轴线等间距圆周阵列分布,冲压块一表面与滚珠一表面相互贴合。本发明为一种自润滑的滚珠结构超低摩擦副,使用效果好。
技术领域
本发明涉及自润滑的滚珠结构技术领域,特别涉及一种自润滑的滚珠结构超低摩擦副。
背景技术
两个既直接接触又产生相对摩擦运动的物体所构成的体系称为摩擦副。摩擦副几乎存在于人类社会活动的各个领域,根据摩擦副的运动形式,可以分为滑动摩擦副和滚动摩擦副。滑动摩擦副的两个物体表面有相对滑动或相对滑动趋势。比如,机床中工作台和滑动导轨构成滑动摩擦副。滚动摩擦副的两个物体表面有相对滚动或相对滚动趋势,比如滚动轴承。
现有技术中,管道支架普遍采用不锈钢镜面板+聚四氟乙烯板的滑动摩擦来降低管道冷热膨胀时产生的摩擦力,这种摩擦副的摩擦系数大致为0.1,而一些动设备出口,如汽轮机出口管道需要管支架有更低的摩擦系数,需要摩擦系数低于0.01,如专利号为CN212775982U公开的一种超低摩擦副,包括有管道支架底板、滚珠摩擦副垫板和设置在两者之间的滚珠摩擦副;该滚珠摩擦副包括上方的滚珠摩擦副上轨道滑板,下方的滚珠摩擦副下固定轨道板,还包括设置在两者之间的滚珠活动中间轨道,上下板与中间轨道之间设置两层滚珠,该方案只仅仅提供了一种摩擦副,但是并没有对滚珠进行润滑,使得摩擦副的使用效果有待提高,因此有必要提出一种新的解决方案。
现有的超低摩擦副存在润滑性能差,造成使用效果差的问题,为此,我们提出一种自润滑的滚珠结构超低摩擦副。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种自润滑的滚珠结构超低摩擦副,可以有效解决背景技术中的问题。
为实现上述目的,本发明采取的技术方案为:一种自润滑的滚珠结构超低摩擦副,包括摩擦副组件,所述摩擦副组件上部设有上连接组件,所述摩擦副组件下部设有下连接组件,所述上连接组件以及所述下连接组件关于所述摩擦副组件对称分布;
所述摩擦副组件包括保持架,所述保持架上开设有若干圆形通孔,若干所述圆形通孔等间距阵列分布,每个所述圆形通孔上下两端开设有环形凹槽,所述环形凹槽纵截面呈四分之一圆结构,相邻两个所述环形凹槽之间开设有缺口,所述缺口与相邻两个所述环形凹槽贯通连接,所述圆形通孔内活动设有滚珠,所述滚珠直径小于所述圆形通孔中部内径,所述滚珠球心点位于所述圆形通孔中轴线上,所述滚珠球形点与所述保持架中心点等高,所述环形凹槽内壁设有冲压块,所述冲压块的个数为四个,四个所述冲压块围绕所述圆形通孔中轴线等间距圆周阵列分布,所述冲压块一表面与所述滚珠一表面相互贴合,所述保持架使用整块不锈钢板通过车削加工制成,将滚珠放入圆形通孔内部,并保证所述滚珠球形点与所述保持架中心点等高后,通过冲压所述环形凹槽内壁边缘,得到防止滚珠脱落的冲压块,使得本发明能够保证滚珠不会脱落提高使用效果,所述环形凹槽内填充有挥发性小于%2的5201硅脂油,当滚珠滚动时,存储在环形凹槽里的硅脂油,通过每个滚珠孔周围的四个缺口进入滚珠与圆形通孔内壁之间,对滚珠进行润滑。
优选地,所述上连接组件包括位于滚珠上部的第一渗碳板,所述第一渗碳板上连接有第一焊板,所述第一渗碳板以及所述第一焊板尺寸相同,所述第一渗碳板尺寸大于所述保持架尺寸,第一焊板用于焊接设备支耳或管托底板。
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