[发明专利]一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺

权利要求书

1.一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1、结构件制作，将PC原料、色粉、硅和助剂，按照适合比例添加，进行重新造粒改性，经过造粒机抽出塑胶粒，然后采用注塑机将塑胶粒注塑成型结构件；

步骤S2、结构件清洁，将注塑成型的所述结构件浸入清洗槽内进行浸泡清洗30秒；

步骤S3、喷涂底漆，在所述结构件表面依次喷涂白色底漆、透明双色底漆和双固化UV底漆，其中每喷涂一层漆后均进行一次烘烤；

步骤S4、磁控光学溅镀，将喷涂底漆后的所述结构件放入磁控镀膜机内，依次进行铌、硅和铌三层溅射进行镀膜；

步骤S5、喷涂处理剂及中漆，对磁控光学溅镀后的所述结构件进行喷涂处理剂和双固化中漆，其中每次喷涂处理剂和双固化中漆后均需进行烘烤；

步骤S6、喷涂面漆，对喷涂处理剂和中漆完成后的所述结构件进行喷涂柔性面漆，喷涂完成后再次进行烘烤；

步骤S7、表面印刷，最后在所述柔性面漆上进行印刷油墨图案，然后进行烘烤，完成所述结构件整个镀膜过程。

2.根据权利要求1所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤S3中的双固化UV底漆采用高压喷枪，时间为20分钟，温度为75℃，膜厚为22-28um，烘烤温度为55℃，烘烤时间为5分钟。

3.根据权利要求1所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤S3中的透明双色底漆采用12个高压喷枪，时间为22分钟，温度为75℃，膜厚为7-9um，烘烤温度为65℃，烘烤时间为13分钟。

4.根据权利要求1所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤S5中的双固化中漆采用3个高压喷枪，时间为8分钟，温度为55℃，膜厚为1-2um，烘烤温度为55℃，烘烤时间为5分钟。

5.根据权利要求1所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤S6中的柔性面漆采用9个高压喷枪，时间为8分钟，温度为55℃，膜厚为22-25um，烘烤温度为60℃，烘烤时间为5分钟。

6.根据权利要求2所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述双固化UV底漆的配方比例为3官聚氨酯丙烯酸酯23%-28%，2官聚碳16%-20%，3官单体6%-8%，两官单体4.5%-5.5%，光引发剂3.8%-4.2%，流平剂0.9%-1.1%，乙酸丁酯9%-11%，乙酸乙酯38%-42%。

7.根据权利要求3所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述透明双色底漆的配方比例为特殊羟基丙烯酸树脂28%-32%，着色色粉6.5%-7.5%，色浆6%-8%，防沉分散助剂4.8%-5.2%，乙酸丁酯17%-20%，乙酸乙酯38%-42%。

8.根据权利要求4所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述双固化中漆的配方比例为附着力促进剂28%-32%，丙烯酸酯不饱和树脂6.5%-7.5%，甲基异丁基酮6%-8%，乙酸丁酯17%-20%，乙酸乙酯38%-42%。

9.根据权利要求5所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述柔性面漆的配方比例为6官聚氨酯丙烯酸酯9%-11%，15官聚氨酯丙烯酸酯7.5%-8.5%，6官单体6%-8%，特殊改性丙烯酸酯28%-32%，光引发剂1.8%-2.2%，深层固化光引发剂0.9%-1.1%，流平剂2.9%-3.1%，乙酸丁酯19%-21%，乙酸乙酯9%-11%，甲基异丁基酮8.8%-9.2%。

10.根据权利要求1所述的一种塑胶结构件磁控光学镀膜工艺，其特征在于：所述步骤S4的磁控光学溅镀，将所述铌、硅和铌固态材料加热升华到气态，再将气态的铌、硅或铌原子、分子或离子加速，到达高度真空的磁控镀膜机的溅射仓内，附着在所述结构件表面，使其铌、硅或铌材料在欲镀面的表面沉积形成薄膜，其三层铌、硅和铌薄膜厚度相加为287um。