[发明专利]一种柔性抛光工具、抛光方法及其抛光磁囊的制造方法

说明书

本发明公开了一种柔性抛光工具、抛光方法及其抛光磁囊的制造方法，柔性抛光工具包括电磁铁和该抛光磁囊，抛光磁囊为采用磁流变弹性体制成的内部压力恒定的壁厚不均匀的磁囊，抛光方法则是采用该柔性抛光工具对待抛工件进行抛光，并在抛光过程中改变磁场强度和抛光角度。采用该抛光方法对待抛工件进行抛光，可以令抛光设备在控制柔性抛光工具走常规简易路径的情况下，降低抛光产生的中频误差，因此抛光设备无需运行随机路径，其不易抖动或损坏。而采用该抛光磁囊制造方法，可以根据现实使用的各种性能不同的抛光设备的参数，制造出与之相匹配的柔性抛光工具，使不同性能的抛光设备可以在各自的能力范围内使用前述的抛光方法对待抛工件进行抛光。

技术领域

本发明涉及工件抛光技术领域，具体涉及一种柔性抛光工具、抛光方法及其抛光磁囊的制造方法。

背景技术

现有的抛光技术中，柔性抛光工具由于其抛光效率高、能够与待抛工件的表面随型贴合等优点，因此通常采用柔性抛光工具进行精密抛光。柔性抛光工具在抛光的过程中，一般实施常规简易路径进行抛光，例如光栅路径，但其由于抛光斑大小相同因此不可避免地会产生中频误差。为此，在现有技术中采取的技术手段是控制柔性抛光工具实施随机路径，令柔性抛光工具产生急转和急停等动作，从而分散均摊抛光后产生的表面波纹进而降低中频误差。但是运行随机路径对抛光设备的性能要求严格，并且容易造成抛光设备的抖动甚至损坏。

发明内容

本发明的目的在于克服背景技术中存在的上述缺陷或问题，提供一种柔性抛光工具、抛光方法及其抛光磁囊的制造方法，采用该柔性抛光工具以该抛光方法对待抛工件进行抛光，可以令抛光设备在控制柔性抛光工具走常规简易路径的情况下，降低抛光产生的中频误差，因此抛光设备无需运行随机路径，其不易抖动或损坏。而采用该抛光磁囊制造方法，可以根据现实使用的各种性能不同的抛光设备的参数，制造出与之相匹配的柔性抛光工具，使不同性能的抛光设备可以在各自的能力范围内使用前述的抛光方法对待抛工件进行抛光。

为达成上述目的，本发明采用如下技术方案：

第一技术方案涉及一种柔性抛光工具，其中，包括：基座，其适于固接于抛光设备的加工主轴；抛光磁囊，其固接于所述基座；所述抛光磁囊由磁流变弹性体制成，其设有厚度不均匀的壳体和由所述壳体围合形成的内腔，所述内腔内填充有气体或微纳米径的无磁性粉末，从而支撑所述壳体并使内腔内的压力恒定以供抛光；电磁铁，其固接于所述基座，其适于连接于外部数控设备以在所述壳体的体积范围内产生线性可调的匀强磁场。

第二技术方案基于第一技术方案，其中，所述壳体的外表面为带有缺口的球面，所述球面对应的内表面为波纹面，所述匀强磁场的磁场方向垂直于所述缺口所在的平面。

第三技术方案基于第一技术方案，其中，所述壳体的外表面与内表面均为带有缺口的球面且球心不重合，所述匀强磁场的磁场方向垂直于所述缺口所在的平面。

第四技术方案基于第一至第三中任一技术方案，其中，还包括抛光垫，所述抛光垫贴设于所述壳体的外表面。

第五技术方案基于第一技术方案，其中，所述磁流变弹性体由硅胶混合磁性粉末制成，其中硅胶与磁性粉末的比例为6：4。

第六技术方案涉及一种基于技术方案1-5任一项所述的柔性抛光工具的抛光方法，其中，包括如下步骤：S1：将柔性抛光工具安装在抛光设备的加工主轴上；S2:抛光设备的加工主轴带动所述抛光磁囊高速旋转，按照设定的抛光角度和由直线路径构成的简易路径对待抛工件进行抛光，在抛光的过程中，通过调控磁场强度控制抛光磁囊的弹性模量，继而调控抛光磁囊与待抛工件接触区域的压力。

第七技术方案基于第六技术方案，其中，所述简易路径中，相邻的直线路径下，抛光角度不同。