[发明专利]一种GaN/rGO氨气传感器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310481026.1 申请日: 2023-04-28
公开(公告)号: CN116593538A 公开(公告)日: 2023-08-15
发明(设计)人: 李栋辉;韩丹;桑胜波;冀健龙;陈毅 申请(专利权)人: 太原理工大学
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12;B82Y30/00;B82Y40/00;B82Y15/00
代理公司: 太原高欣科创专利代理事务所(普通合伙) 14109 代理人: 张敏;崔雪花
地址: 030024 *** 国省代码: 山西;14
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摘要:
搜索关键词: 一种 gan rgo 氨气 传感器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种GaN/rGO氨气传感器,其特征在于,包括固定在传感器衬底薄膜上的敏感材料;所述敏感材料是由可溶性镓盐、尿素与GO纳米片采用溶剂热方法制备得到的GaN/rGO气敏材料;所述可溶性镓盐、尿素与GO纳米片的摩尔质量比1:3:1~1:3:3。

2.根据权利要求1所述的一种GaN/rGO氨气传感器,其特征在于,所述的可溶性镓盐为氯化镓、硝酸镓、硫酸镓中的一种。

3.根据权利要求1所述的一种GaN/rGO氨气传感器,其特征在于,所述的溶剂热方法是将可溶性镓盐、尿素与GO纳米片溶解在水中,并滴加含氮有机溶剂至Ga3+物质的量浓度为0.05 mol/L~0.2 mol/L;将混合后的溶液置于反应釜中,反应温度为90℃~120℃,反应时间为8h~12 h,再将反应物洗涤离心干燥后氮化处理。

4.根据权利要求1所述的一种GaN/rGO氨气传感器,其特征在于,所述传感器衬底薄膜为衬底上沉积了Ti/Au插指电极的传感器薄膜。

5.根据权利要求4所述的一种GaN/rGO氨气传感器,其特征在于,所述衬底为Si、Al2O3、SiC中的一种。

6.根据权利要求4所述的一种GaN/rGO氨气传感器,其特征在于,Ti/Au插指电极的厚度为50~100 nm。

7.如权利要求1-6任意一项所述的一种GaN/rGO氨气传感器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

1)制备GaN/rGO气敏材料:将可溶性镓盐、尿素与GO纳米片混合在去离子水中,滴加含氮有机溶剂至Ga3+物质的量浓度为0.05 mol/L~0.2 mol/L,在反应温度为90℃~120℃,反应时间为8h~12 h条件下进行溶剂热反应;将溶剂热反应产物洗涤离心干燥后得到前驱体粉末;将前驱体粉末在600~900℃下通以80~200 sccm NH3氮化30~60min,得到GaN/rGO气敏材料;

2)所制备的GaN/rGO气敏材料溶于去离子水中超声分散均匀,所得GaN/rGO气敏材料水溶液的质量体积比为1~50 g/L;而后将GaN/rGO气敏材料水溶液旋涂到半导体衬底薄膜上烘干制得GaN/rGO氨气传感器。

8.根据权利要求7所述的一种GaN/rGO氨气传感器的制备方法,其特征在于,所述的GO纳米片的制备方法为:在冰浴条件下将石墨与硝酸钠加入浓硫酸中,而后缓慢加入高锰酸钾,磁力搅拌反应均匀;之后加入质量分数为5%的H2O2溶液搅拌至无气泡冒出;最后用稀盐酸与去离子水洗涤溶液至中性,离心干燥后得到GO纳米片;在溶剂热反应过程中GO纳米片被还原成为rGO纳米片。

9.根据权利要求7所述的一种GaN/rGO氨气传感器的制备方法,其特征在于,所述半导体衬底薄膜的制备方法为:在衬底上用磁控溅射或薄膜蒸镀技术沉积Ti/Au插指电极制备传感器薄膜,并将薄膜放在快速退火炉中450~800℃快速退火30~90s,使得电极与衬底之间形成良好的欧姆接触。

10.根据权利要求7所述的一种GaN/rGO氨气传感器的制备方法,其特征在于,所述的含氮有机溶剂是正丁胺、乙二胺、偏二甲肼、油胺以及三辛胺中的一种。

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