[发明专利]一种用于光掩膜的石英基板材料及其制备方法在审
申请号: | 202310442105.1 | 申请日: | 2023-04-23 |
公开(公告)号: | CN116400561A | 公开(公告)日: | 2023-07-07 |
发明(设计)人: | 李加海;高伟东;曹荣府 | 申请(专利权)人: | 安徽禾臣新材料有限公司 |
主分类号: | G03F1/60 | 分类号: | G03F1/60;G03F1/50;B24B29/02;B24B1/00 |
代理公司: | 合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙) 34160 | 代理人: | 王玉 |
地址: | 243000 安徽省马鞍山市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 光掩膜 石英 板材 料及 制备 方法 | ||
1.一种用于光掩膜的石英基板材料的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤一:对石英玻璃表面进行研磨切削,超声清洗并真空干燥,测量石英玻璃的平整度;
步骤二:将石英玻璃精雕加工,超声清洗并真空干燥,得到玻璃基板(33),检测玻璃基板(33)并剔除有超标缺陷的玻璃基板(33);
步骤三:对没有超标缺陷的玻璃基板(33)表面进行抛亮处理,采用连续超声清洗的方式对玻璃基板(33)表面进行清洁,然后测量玻璃基板(33)的总厚度变化和局部平整度;
步骤四:采用单面抛光机对玻璃基板(33)进行粗抛光和精抛光,检测玻璃基板(33)是否有超标缺陷;对有超标缺陷的玻璃基板(33)重新进行粗抛光,对没有超标缺陷的玻璃基板(33)进行旋转清洗和真空干燥,完成光掩膜的石英基板材料的制备。
2.根据权利要求1所述的一种用于光掩膜的石英基板材料的制备方法,其特征在于,所述研磨切削时砂轮的切削线速度为10-40m/s,砂轮径向单次进量为0.1-0.4μm。
3.根据权利要求1所述的一种用于光掩膜的石英基板材料的制备方法,其特征在于,所述超声清洗的频率为100-150KHz。
4.根据权利要求1所述的一种用于光掩膜的石英基板材料的制备方法,其特征在于,所述真空干燥的温度为40-60℃。
5.根据权利要求1所述的一种用于光掩膜的石英基板材料的制备方法,其特征在于,所述单面抛光机包括台面(1),台面(1)上还设置有喷洒抛光液的喷头(4)和固定石英玻璃用的固定器(3)。
6.根据权利要求5所述的一种用于光掩膜的石英基板材料的制备方法,其特征在于,所述固定器(3)包括升降机构(301),升降机构(301)的上端固定有连接杆(302),连接杆(302)远离升降机构(301)的一端的上部固定有电机,连接杆(302)远离升降机构(301)的一端的下部转动连接有转轴(30),电机的输出轴与转轴(30)固定连接;转轴(30)远离电机的一端固定有固定盘(31),固定盘(31)底面粘贴有吸附玻璃基板(33)用的吸附垫(32)。
7.根据权利要求6所述的一种用于光掩膜的石英基板材料的制备方法,其特征在于,所述固定盘(31)上端设置有冷却机构,冷却机构包括保护罩(36),固定盘(31)上端还环形阵列设置有散热翅片(34),保护罩(36)四周开设有供散热翅片(34)穿过的散热口(38),散热翅片(34)上设置有冷却盘管(35);保护罩(36)内一侧固定有驱动冷却盘管(35)内冷却液循环用的循环泵,另一侧固定有平衡块(39)。
8.根据权利要求7所述的一种用于光掩膜的石英基板材料的制备方法,其特征在于,所述冷却盘管(35)上设置有补充冷却液用的加液口(37)。
9.一种用于光掩膜的石英基板材料,其特征在于,通过权利要求1-8中任意一项制备方法制得。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽禾臣新材料有限公司,未经安徽禾臣新材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310442105.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备