[发明专利]一种复合ZnFe2

权利要求书

1.一种复合ZnFe₂O₄/SiNWs材料的制备方法，其特征在于：将ZnFe₂O₄纳米颗粒负载于SiNWs表面形成所述ZnFe₂O₄/SiNWs材料。

2.根据权利要求1所述的一种复合ZnFe₂O₄/SiNWs材料的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：通过水热法制得ZnFe₂O₄纳米颗粒，将ZnFe₂O₄溶解于无水乙醇中，制备成ZnFe₂O₄乙醇溶液，然后将ZnFe₂O₄乙醇溶液依次通过旋涂和煅烧的方法负载于SiNWs表面，得到所述ZnFe₂O₄/SiNWs光电阳极材料。

3.根据权利要求1所述的一种复合ZnFe₂O₄/SiNWs材料的制备方法，其特征在于：制备ZnFe₂O₄纳米颗粒的前驱体试剂9.5～10.5mmol的Fe(NO₃)₃·9H₂O、5～6mmol的Zn(NO₃)₂·6H₂O及50～60mL去离子水的混合液，并用1mol/LNaOH溶液调节混合液的pH至12；

水热反应温度为160～200℃，水热反应时间为12～18h；

ZnFe₂O₄乙醇溶液的浓度为0.25～1mg/mL；

旋涂过程中旋转速率为500～1000转每分钟，旋转时间为30～60s，1*1cm的SiNWs旋涂体积为100～150μL；

煅烧温度为200～300℃，保温时间为2～3h，煅烧在氮气气氛下进行。

4.根据权利要求2所述的一种复合ZnFe₂O₄/SiNWs材料的制备方法，其特征在于：所述SiNWs的制备方法如下，将硅片预处理后放入Piranha混合溶液中浸泡，然后依次放入银沉积溶液、酸性刻蚀液、去银溶液进行银沉积、酸性刻蚀和去银操作，并采用金属辅助化学刻蚀的方法制备硅纳米线阵列。

5.根据权利要求4所述的一种复合ZnFe₂O₄/SiNWs材料的制备方法，其特征在于：

所述Piranha混合溶液为体积比为3:1～3:2的H₂SO₄和H₂O₂的混合溶液；

所述银沉积溶液为0.01～0.05mol/LAgNO₃水溶液与4.6～5mol/LHF水溶液的混合溶液；

所述酸性刻蚀液为0.3～0.5mol/LH₂O₂水溶液与4.6～5mol/LHF水溶液的混合溶液；

所述去银溶液为体积比为1:1～1:2的硝酸和去离子水的混合溶液。