[发明专利]一种ZnS：Cu荧光薄膜冲击光学响应实验系统

权利要求书

1.一种ZnS：Cu荧光薄膜冲击光学响应实验系统，包括光响应检测模块(4)、接触板(6)，所述光响应检测模块(4)包括暗室(41)、光响应检测机构(42)，所述接触板(6)背部涂敷有薄膜部(61)，其特征在于：还包括冲击实验盘(1)、冲击模组(2)、定位板(3)、冲击类型切换模块(5)、安装卡框(7)；

所述定位板(3)固定在所述冲击实验盘(1)内，所述暗室(41)与所述定位板(3)转动连接，所述安装卡框(7)固定连接在所述暗室(41)的开放端部，且所述安装卡框(7)与所述定位板(3)槽体对应，所述接触板(6)安装在所述安装卡框(7)内，所述薄膜部(61)位于所述安装卡框(7)靠近所述暗室(41)的一侧；

所述冲击实验盘(1)内开设有冲击导向槽(11)，所述冲击导向槽(11)内滑动连接有对所述接触板(6)冲击的所述冲击模组(2)，所述冲击模组(2)通过拉簧(24)与所述冲击实验盘(1)弹性连接，所述冲击模组(2)上设置有冲击球(21)，所述冲击类型切换模块(5)设置在所述冲击模组(2)的底部，用于控制所述冲击球(21)的锁定状态、活动状态切换，从而使所述冲击模组(2)在所述接触板(6)上产生平面冲击、曲线滑动冲击两种冲击形式。

2.根据权利要求1所述的一种ZnS：Cu荧光薄膜冲击光学响应实验系统，其特征在于：所述冲击模组(2)的顶部转动连接有变向转动座(23)，所述变向转动座(23)通过扭簧(231)与所述冲击模组(2)弹性转动连接，支撑杆(22)固定连接在所述变向转动座(23)的顶部，所述冲击球(21)固定连接在所述支撑杆(22)上端，所述冲击球(21)的直径大于所述支撑杆(22)的直径。

3.根据权利要求2所述的一种ZnS：Cu荧光薄膜冲击光学响应实验系统，其特征在于：所述冲击导向槽(11)底面开设有控制槽(12)，所述冲击模组(2)的底部通过延伸杆固定连接有底盘(25)，所述延伸杆滑动连接在所述控制槽(12)的内部，所述冲击类型切换模块(5)设置在所述底盘(25)的底部。

4.根据权利要求3所述的一种ZnS：Cu荧光薄膜冲击光学响应实验系统，其特征在于：所述冲击类型切换模块(5)包括转动连接在所述底盘(25)底部的转盘(51)以及转动连接在所述延伸杆内部的螺纹部(52)，所述冲击模组(2)内部滑动连接有卡板(53)，所述卡板(53)底部固定连接有套管(54)，所述套管(54)滑动连接在所述延伸杆的内部，所述套管(54)与所述螺纹部(52)螺接，所述冲击模组(2)内部设置有两个对所述卡板(53)垂直导向的导向杆(55)，所述变向转动座(23)的底部固定连接有与所述卡板(53)配合锁止的卡齿(232)。

5.根据权利要求1所述的一种ZnS：Cu荧光薄膜冲击光学响应实验系统，其特征在于：所述定位板(3)上设置有若干个定位盘(31)，所述定位盘(31)两两一组分布在所述安装卡框(7)的两侧，所述安装卡框(7)与所述定位盘(31)转动连接，所述定位盘(31)上开设有若干个环形分布的定位孔(32)，所述安装卡框(7)侧面开设有与所述定位孔(32)对应的孔体。

6.根据权利要求1所述的一种ZnS：Cu荧光薄膜冲击光学响应实验系统，其特征在于：所述安装卡框(7)的顶部开设有顶插槽(71)，所述安装卡框(7)的两侧开设有侧插槽(72)，所述安装卡框(7)底部为开放结构，所述暗室(41)端面的上端和下端均设置有密封部(43)。

7.根据权利要求1所述的一种ZnS：Cu荧光薄膜冲击光学响应实验系统，其特征在于：所述薄膜部(61)的边缘与所述接触板(6)边缘之间具有封装边。