[发明专利]一种监测残氧浓度的浓差式氧传感器及其制备方法在审
| 申请号: | 202310348822.8 | 申请日: | 2023-04-04 |
| 公开(公告)号: | CN116223590A | 公开(公告)日: | 2023-06-06 |
| 发明(设计)人: | 高峰;孙志檬;初菲;刘皓;孙俊杰 | 申请(专利权)人: | 明石创新(烟台)微纳传感技术研究院有限公司;明石创新产业技术研究院有限公司 |
| 主分类号: | G01N27/409 | 分类号: | G01N27/409;G01N27/30 |
| 代理公司: | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人: | 马国冉 |
| 地址: | 264006 山东省烟台市经济*** | 国省代码: | 山东;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 监测 浓度 浓差式氧 传感器 及其 制备 方法 | ||
1.一种监测残氧浓度的浓差式氧传感器,其特征在于,结构自上而下依次为:Al2O3基片(1)、上层多孔Pt电极(2)、钇稳定氧化锆固体电解质(3)、下层多孔Pt电极(4)、回字形致密钇稳定氧化锆层(5)、Al2O3绝缘层(6)和加热电极(7),其中,上层多孔Pt电极(2)和下层多孔Pt电极(4)上各连接有一根导电丝、加热电极(7)上连接有两根导电丝,加热电极(7)呈S形排布。
2.一种权利要求1所述的监测残氧浓度的浓差式氧传感器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
Step1:对Al2O3基片进行化学清洗;
Step2:将Al2O3基片固定在多靶磁控溅射的衬底盘上,设置溅射室环境参数;
Step3:在第一块Al2O3基片上依次溅射上层多孔Pt电极(2)、钇稳定氧化锆固体电解质(3)、下层多孔Pt电极(4)和回字形致密钇稳定氧化锆层(5),溅射完毕后保留Al2O3基片,得到上半部分芯体;
Step4:在第二块Al2O3基片上依次溅射Al2O3绝缘层(6)和加热电极(7),溅射完毕后去掉Al2O3基片,得到下半部分芯体;
Step5:在上层多孔Pt电极(2)和下层多孔Pt电极(4)上各连接一根导电丝、在加热电极(7)上连接两根导电丝,将上半部分芯体与下半部分芯体叠加到一起并叠压得到初产品;
Step6:对叠压后得到的初产品进行热退火处理;
Step7:在上层多孔Pt电极(2)、钇稳定氧化锆固体电解质(3)、下层多孔Pt电极(4)、回字形致密钇稳定氧化锆层(5)和Al2O3绝缘层(6)的外侧涂覆陶瓷密封胶。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,在Step2中,溅射室的环境参数具体如下:真空抽至4×10-5Pa~6×10-3Pa,通入O2与Ar的混合气体,O2与Ar的体积比例为1:1~20,气体流速16sccm~75sccm。
4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,在Step3中,溅射上层多孔Pt电极(2)和下层多孔Pt电极(4)的工艺参数为:以购买得到的电极用商业Pt靶材作为目标靶材,设置溅射室的压力为20Pa~80Pa、薄膜沉积速度为6nm/min~15nm/min、薄膜沉积厚度为0.2μm~3μm,采用直流溅射的方式进行溅射沉积。
5.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,在Step3中,溅射钇稳定氧化锆固体电解质(3)的工艺参数为:将掺杂有质量比例为3%~8%的Y2O3的钇稳定氧化锆制备成溅射用靶材,设置靶基距为90mm、溅射室压力为0.1Pa~0.75Pa、薄膜沉积速度为2nm/min~5nm/min、薄膜沉积厚度为0.3μm~12μm,采用射频溅射的方式进行溅射沉积。
6.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,在Step3中,溅射回字形致密钇稳定氧化锆层(5)的工艺参数为:将掺杂有质量比例为3%~8%的Y2O3的钇稳定氧化锆制备成溅射用靶材,首先利用PI高温胶带对下层多孔Pt电极(4)进行溅射遮挡,然后设置沉积功率为400W、溅射室压力为0.1Pa~0.75Pa、薄膜沉积速度为2nm/min~5nm/min、薄膜沉积厚度为0.3μm~12μm,采用射频溅射的方式在下层多孔Pt电极(4)上进行溅射沉积,溅射完毕机械撕掉PI高温胶带。
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