[发明专利]吡啶轴向配位修饰类卟啉Ni-N-C复合材料及其制备方法和应用在审
申请号: | 202310147402.3 | 申请日: | 2023-02-22 |
公开(公告)号: | CN116577309A | 公开(公告)日: | 2023-08-11 |
发明(设计)人: | 王珊;王欢;岳建设;尚永辉;高奕红;吴颖;张瑶;王瑜 | 申请(专利权)人: | 咸阳师范学院 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64;G01N21/01;G01N27/26 |
代理公司: | 陕西铭一知识产权代理有限公司 61287 | 代理人: | 马歆甜 |
地址: | 71209*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 吡啶 轴向 修饰 卟啉 ni 复合材料 及其 制备 方法 应用 | ||
本发明属于改性g‑Csubgt;3/subgt;Nsubgt;4/subgt;材料技术领域,公开了一种吡啶轴向配位修饰类卟啉Ni‑N‑C复合材料及其制备方法和应用,所述方法包括:将g‑Csubgt;3/subgt;Nsubgt;4/subgt;前驱体与镍源混合均匀后,于700~800℃的温度下烧结处理1~3h,获得复合材料A;其中,所述g‑Csubgt;3/subgt;Nsubgt;4/subgt;前驱体为三聚氰胺;将复合材料A均匀分散于水溶液中,经超声处理后,静置,获得上清液;向上清液中加入吡啶和醇溶液混匀后,干燥,获得复合材料B。本发明在原子尺度上,通过加入镍原子与g‑Csubgt;3/subgt;Nsubgt;4/subgt;空腔结构上的N进行配位形成单原子Ni‑N‑C材料,利用轴向吡啶基团进行五配位改变镍单原子局部电荷微环境以优化g‑Csubgt;3/subgt;Nsubgt;4/subgt;的光学性能及其稳定性。
技术领域
本发明涉及改性g-C3N4材料技术领域,尤其涉及一种吡啶轴向配位修饰类卟啉Ni-N-C复合材料及其制备方法和应用。
背景技术
g-C3N4因制作简单且廉价,且具有耐酸耐腐蚀、可见光响应等优点,而受到了广大学者的关注。且现有技术中,相关研究表明孤立过渡金属/氮配位(M-N-C)材料具有与金属卟啉化合物相似的M-Nx配位环境及特性。而且类卟啉的M-N-C材料也由于其优异的性能和易于回收的特点而受到关注。目前已有大量研究在催化、传感、储能、生物成像、能源、医学等领域展开。
现有技术在制备类卟啉的M-N-C材料时需要添加催化剂才能进行,且制备获得的产物除了目标产物还会产生一些副产物,产物纯度低,不利于类卟啉的M-N-C材料的进一步应用,因此,针对性合理设计与可控精确合成制备类卟啉的M-N-C材料仍然是主要障碍。而且,具有平面对称电子构型的原始Ni-N-C材料没有充分利用其配位优势;因此,制备出能够打破传统M-N4位点对称性、提高金属中心电荷活性仍是目前一大挑战。
为此,本发明提出一种吡啶轴向配位修饰类卟啉Ni-N-C复合材料及其制备方法和应用。
发明内容
为了解决上述现有技术中的不足,本发明提供一种吡啶轴向配位修饰类卟啉Ni-N-C复合材料及其制备方法和应用。
本发明的一种吡啶轴向配位修饰类卟啉Ni-N-C复合材料及其制备方法和应用是通过以下技术方案实现的:
本发明的第一个目的是提供一种吡啶轴向配位修饰类卟啉Ni-N-C复合材料的制备方法,包括以下步骤:
步骤1,将g-C3N4前驱体与镍源混合均匀后,于700~800℃的温度下烧结处理1~3h,获得复合材料A;
其中,所述g-C3N4前驱体为三聚氰胺、尿素和硫脲中的任意一种;
步骤2,将复合材料A均匀分散于水溶液中,经超声处理以充分剥离氮化碳后,静置,获得上清液;向上清液中加入吡啶和醇溶液混匀后,干燥,获得复合材料B,所述复合材料B即为吡啶轴向配位修饰类卟啉Ni-N-C复合材料。
进一步地,所述镍源为氯化镍、硫酸镍和硝酸镍中的任意一种。
进一步地,所述复合材料A与所述水溶液的用量比为0.4~2.0g:100mL。
进一步地,所述上清液与吡啶和醇溶液的体积比为4~6:1:1。
进一步地,所述超声处理采用超声清洗仪进行,且超声时间为3~5天。
进一步地,所述干燥处理的温度为40~60℃,干燥时间为4~12h。
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