[发明专利]高能激光光强分布测量方法及装置在审
申请号: | 202310069087.7 | 申请日: | 2023-01-17 |
公开(公告)号: | CN116295813A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 刘晓龙;胡文哲;聂树真;张洪流;王玉恒;樊仲维 | 申请(专利权)人: | 中国科学院空天信息创新研究院 |
主分类号: | G01J1/00 | 分类号: | G01J1/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李相雨 |
地址: | 100094*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高能 激光 分布 测量方法 装置 | ||
1.一种高能激光光强分布测量装置,其特征在于,包括光束取样元件、取样材料、取样材料控制平台、损伤斑监测系统及数据处理终端;其中:
所述光束取样元件,用于对待测高能激光进行固定直径的单束取样,得到入射激光;
所述取样材料控制平台,与所述取样材料连接,用于调整所述入射激光入射到所述取样材料表面的入射角度,及调整所述入射激光作用在所述取样材料表面的位置;
所述损伤斑监测系统,用于监测所述取样材料表面的激光损伤斑半径;
所述数据处理终端,与所述损伤斑监测系统连接,用于基于所述取样材料的损伤阈值先验数据和所述激光损伤斑半径确定所述待测高能激光光强分布;其中,不同所述激光损伤斑半径对应不同的所述入射角度。
2.根据权利要求1所述的高能激光光强分布测量装置,其特征在于,所述取样材料包括以下至少一项:金属片;玻璃;半导体材料。
3.根据权利要求1所述的高能激光光强分布测量装置,其特征在于,所述取样材料控制平台包括:旋转台和平移台;其中,
旋转台,用于调整所述入射激光入射到所述取样材料表面的入射角度;
平移台,用于调整所述入射激光作用在所述取样材料表面的位置。
4.一种基于如权利要求1所述的高能激光光强分布测量装置的高能激光光强分布测量方法,其特征在于,包括:
对待测高能激光进行固定直径的单束取样,得到入射激光;
以第一预设角度入射所述入射激光到所述取样材料表面;
调整所述入射激光入射到所述取样材料表面的入射角度,及所述入射激光作用在所述取样材料表面的位置;
获取不同所述入射角度时所述取样材料表面的激光损伤斑半径;
基于所述取样材料的损伤阈值先验数据和所述激光损伤斑半径确定所述待测高能激光光强分布;
其中,不同所述激光损伤斑半径对应不同的所述入射角度。
5.根据权利要求4所述的高能激光光强分布测量方法,其特征在于,所述取样材料的损伤阈值先验数据为所述取样材料激光损伤阈值与所述入射激光入射角度的对应关系;
其中,所述取样材料激光损伤阈值为所述激光损伤斑诱发的激光强度。
6.根据权利要求4所述的高能激光光强分布测量方法,其特征在于,在以第一预设角度入射所述入射激光到所述取样材料表面之后,所述方法还包括:判定所述取样材料是否出现所述激光损伤斑;
在确定所述取样材料出现所述激光损伤斑的情况下,以固定增量增加所述入射角度,并记录所述激光损伤斑半径;
或,在确定所述取样材料未出现所述激光损伤斑的情况下,更换所述取样材料。
7.根据权利要求6所述的高能激光光强分布测量方法,其特征在于,所述以固定增量增加所述入射角度之后,所述方法还包括:
移动所述取样材料的位置,以调整所述入射激光作用在所述取样材料表面的位置。
8.根据权利要求4所述的高能激光光强分布测量方法,其特征在于,所述取样材料包括以下至少一项:金属片;玻璃;半导体材料。
9.根据权利要求4所述的高能激光光强分布测量方法,其特征在于,所述待测高能激光包括以下至少一项:普通高能激光光束;聚焦后焦点处的高能激光光束。
10.根据权利要求4所述的高能激光光强分布测量方法,其特征在于,所述方法还包括:
所述激光损伤斑半径等同于所述待测高能激光的径向半径;
所述待测高能激光光强分布为所述待测高能激光光强随所述径向半径的分布情况。
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