[发明专利]一种远距离鬼成像方法在审

专利信息
申请号: 202310038351.0 申请日: 2023-01-10
公开(公告)号: CN116015478A 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 孙哲;李学龙 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: H04B10/70 分类号: H04B10/70;H04B10/54;H04B10/548;G02B27/09
代理公司: 西安凯多思知识产权代理事务所(普通合伙) 61290 代理人: 高凌君
地址: 71007*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 远距离 成像 方法
【权利要求书】:

1.一种水下远距离鬼成像方法,包括以下步骤:

步骤一:光源(1)产生具有一定发散角度的高斯光束或平面光束,强度调制贝塞尔光束产生器件(2)将所述高斯光束或平面光束生成随机强度调制的贝塞尔散斑光场;其中,所述强度调制贝塞尔光束产生器件(2)包括贝塞尔光束产生器和光场强度调制器,所述贝塞尔光束产生器生成随机强度调制的贝塞尔光束;所述光场强度调制器对所述随机强度调制的贝塞尔光束进行调制,生成随机强度调制的贝塞尔散斑光场;

步骤二:根据步骤一生成的随机强度调制的贝塞尔散斑光场,依次投射到目标(3)上,并采用不需要具有空间分辨能力的光电探测器(3)测量目标反射或透射的总光强信号,所述的总光强信号作为目标图像与光投影模式之间的内积;之后,将所述总光强信号传递到计算机(4)的数据同步与处理模块;

步骤三:在所述数据同步与处理模块中将步骤二得到的所述总光强信号与相应投射的所述随机强度调制的贝塞尔散斑光场进行计算重构,得到目标的图像,实现水下远距离鬼成像。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:其中所述贝塞尔光束产生器使用锥透镜或空间光调制器,所述光场强度调制器使用数字微镜器件。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于:通过所述锥透镜改变所述高斯光束或平面光束波前分布,生产贝塞尔光束;或者,通过所述空间光调制器对高斯光束或平面光束进行相位调制,直接产生贝塞尔光束。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述光场强度调制器采用数字微镜器件,在所述数字微镜器件表面产生随机空间强度涨落的光场,所述贝塞尔光束通过所述数字微镜器件后,生成随机强度调制的贝塞尔散斑光场。

5.一种水下远距离鬼成像系统,包括光源(1),强度调制贝塞尔光束产生器件(2),所述强度调制贝塞尔光束产生器件(2)包括贝塞尔光束产生器用于产生贝塞尔光束和光场强度调制器对所述贝塞尔光束进行调制,光电探测器(3)和计算机(4)。

6.根据权利要求5所述的系统,其特征在于:该光源(1)为具有一定发散角度的高斯光束或平面光束,采用LED或激光。

7.根据权利要求5所述的系统,其特征在于:其中所述贝塞尔光束产生器使用锥透镜或空间光调制器,所述光场强度调制器使用数字微镜器件。

8.根据权利要求5所述的系统,其特征在于:所述光电探测器(3)采用光电倍增管、光电二极管、光电导器件或电荷耦合器件。

9.根据权利要求5所述的系统,其特征在于:所述计算机(4)包括主控电路、二维调制光场产生模块、数据同步与处理模块。

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