[发明专利]一种激光图像雕刻方法、装置及计算机可读存储介质有效
申请号: | 202310034307.2 | 申请日: | 2023-01-10 |
公开(公告)号: | CN115815825B | 公开(公告)日: | 2023-05-02 |
发明(设计)人: | 洪汉明;孙帅华;肖成柱 | 申请(专利权)人: | 深圳市睿达科技有限公司 |
主分类号: | B23K26/362 | 分类号: | B23K26/362;B23K26/70 |
代理公司: | 天津创信方达专利代理事务所(普通合伙) 12247 | 代理人: | 李京京 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区招商街道沿*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 激光 图像 雕刻 方法 装置 计算机 可读 存储 介质 | ||
1.一种激光图像雕刻方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1:获取待雕刻图像的位图信息,并将所述雕刻图像转换为灰度图像,按行或按列方式读取图像像素灰度信息并记录;
步骤2:以所述雕刻图像的任意角为坐标原点,以行为X轴和以列为Y轴建立平面坐标系,将所述雕刻图像中的每一像素按照行和列的方向赋予坐标(Xa,Yb),并获取每一像素点的像素灰度值;
步骤3:准备雕刻载体,在载体上确认雕刻区域,并在所述雕刻区域内确认雕刻路径,所述雕刻路径为矩形内螺旋雕刻路线;
步骤4:将每一像素点的像素灰度值根据像素激光转换模型转化为激光能量值;
步骤5:激光设备以每一像素点的激光能量值在所述矩形内螺旋雕刻路线匀速雕刻;
所述步骤5中所述激光在X轴或Y轴上匀速雕刻,在XY 轴转折处进行变速雕刻,其中,X轴雕刻变化为Y轴雕刻,具体包括以下步骤:
步骤501:所述激光以预设速度的匀速状态沿X轴在每个像素点上进行雕刻;
步骤502:当所述激光行进到X轴的末端时,开始减速,直到激光行进到X轴上的最后一个像素点时速度为0;
步骤503:变化所述激光的行进方向为Y轴;
步骤504:所述激光在Y轴的初始速度为0,预加速,使激光行进到Y轴的首端速度为预设速度;
步骤505:激光以预设速度的匀速状态沿Y轴在每个像素点上进行雕刻;
所述激光设备以每一像素点的激光能量值在所述矩形内螺旋雕刻路线匀速雕刻时,所述激光设备雕刻上一像素点时采用第一激光能量值,所述激光设备在到达下一像素点时变化为第二激光能量值,两个连续像素点的激光能量值代入能量变化曲线模型中变化;
所述能量变化曲线模型为:;其中,为能量变化值,,W1为第一激光能量值,W2为第二激光能量值,v为激光的预设速度,为相邻两个像素点的时间差。
2.如权利要求1所述的激光图像雕刻方法,其特征在于,所述激光在X轴或Y轴上直线匀速雕刻时,调取直线路径信息,如果连续n个像素点的激光能量值为0,则跳转到下一个不为0的像素点继续匀速雕刻;其中,n为学习模型中学习计算得到的。
3.如权利要求1所述的激光图像雕刻方法,其特征在于,所述激光在X-Y轴转折处雕刻时,调取转折路径信息,如果X或Y轴转折处的像素点的激光能量值为0,则跳转到Y或X轴不为0的像素点继续匀速雕刻。
4.如权利要求1所述的激光图像雕刻方法,其特征在于,所述像素激光转换模型为:;其中,W为激光能量值,f(w,h,l)为像素大小转换为激光能量的预设函数,Gray为像素的灰度值,w为像素的宽度,h为像素的高度,l为像素的长度。
5.如权利要求3所述的激光图像雕刻方法,其特征在于,所述激光在X-Y轴转折处跳转雕刻时,以转折前不为0的一像素点为末端像素点,在激光到达前减速,直到激光速度由预设速度减为0,以转折后不为0的一像素点为首端像素点,在激光到达前加速,直到激光速度由0变为预设速度。
6.一种激光图像雕刻装置,用于实现如权利要求1-5任一项所述的激光图像雕刻方法,其特征在于,包括
灰度转换器:将所述雕刻图像转换为灰度图像,并获取每一像素点的像素灰度值;
中央处理器:接收像素灰度值,并转化为激光能量值;
激光设备:根据每一像素点的激光能量值在所述矩形内螺旋雕刻路线匀速雕刻;
速度传感器:控制激光设备的雕刻速度,使激光设备在所述矩形内螺旋雕刻路线匀速雕刻。
7.一种计算机可读存储介质,其特征在于,包括程序和指令,当所述程序或指令在计算机上运行时,如权利要求1-5任一项所述的激光图像雕刻方法被实现。
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