[发明专利]ALC浇注工艺配置方法、控制方法、系统和电子设备在审
申请号: | 202310020763.1 | 申请日: | 2023-01-06 |
公开(公告)号: | CN115837710A | 公开(公告)日: | 2023-03-24 |
发明(设计)人: | 易锡年;李凌宇;周冬梅;向伟;唐修国 | 申请(专利权)人: | 湖南三一快而居住宅工业有限公司 |
主分类号: | B28C5/00 | 分类号: | B28C5/00;B28C7/02;B28B1/00;B28B17/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 白冬梅 |
地址: | 410000 湖南省长沙市长沙*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | alc 浇注 工艺 配置 方法 控制 系统 电子设备 | ||
1.一种ALC浇注工艺配置方法,其特征在于,应用于MES,包括:
基于输入操作,获得ALC浇注工艺的工艺任务所需的多个目标工序的顺序以及目标工艺参数集合;
基于所述多个目标工序的顺序以及所述目标工艺参数集合,生成所述工艺任务对应的配置文件;
将所述工艺任务对应的配置文件发送至所述ALC浇注工艺的控制系统,所述ALC浇注工艺的控制系统用于根据所述工艺任务对应的配置文件进行自身配置后,执行所述工艺任务。
2.根据权利要求1所述的ALC浇注工艺配置方法,其特征在于,所述输入操作包括工序选择操作和参数设置操作;
所述基于输入操作,获得ALC浇注工艺的工艺任务所需的多个目标工序的顺序以及目标工艺参数集合,包括:
基于所述目标工序对应的顺序选择操作,获得所述工艺任务的多个目标工序的顺序;
基于参数设置操作,获得所述目标工艺参数集合。
3.根据权利要求2所述的ALC浇注工艺配置方法,其特征在于,所述目标工艺参数集合包括第一工艺参数集合和第二工艺参数集合,所述第一工艺参数集合中的工艺参数的调整频次大于所述第二工艺参数集合的调整频次;
所述基于参数设置操作,获得所述目标工艺参数集合,包括:
获取预设的所述第二工艺参数集合;
基于第一界面中的第一参数设置控件对应的第一参数设置操作,获得实时的所述第一工艺参数集合;
基于实时的所述第一工艺参数集合和预设的所述第二工艺参数集合,获得所述目标工艺参数集合。
4.根据权利要求3所述的ALC浇注工艺配置方法,其特征在于,所述第二工艺参数集合包括配方对应的工艺参数集合和设备对应的工艺参数集合;
所述获取预设的所述第二工艺参数集合之前,还包括:
从所述第一界面跳转至第二界面,并基于所述第二界面中的第二参数设置控件对应的第二参数设置操作,获得所述配方对应的工艺参数集合;
从所述第一界面跳转至第三界面,并基于所述第三界面中的第三参数设置控件对应的第三参数设置操作,获得所述设备对应的工艺参数集合。
5.根据权利要求2所述的ALC浇注工艺配置方法,其特征在于,所述多个目标工序中至少包含新浆料下料、废浆料下料、水泥下料和石灰下料;
基于所述目标工序对应的顺序选择操作,获得所述工艺任务的多个目标工序的顺序,包括:
基于第一界面中的第一顺序选择控件对应的第一顺序选择操作,获得所述新浆料下料和所述废浆料下料的顺序;
基于第一界面中的第二顺序选择控件对应的第二顺序选择操作,获得所述水泥下料和所述石灰下料的顺序;
基于所述新浆料下料、所述废浆料下料、所述水泥下料和所述石灰下料的顺序,获得所述多个目标工序的顺序。
6.根据权利要求1至5任一项所述的ALC浇注工艺配置方法,其特征在于,所述目标工艺参数集合中至少包括:所述多个目标工序对应的时间参数;所述多个目标工序对应的时间参数用于结合所述多个目标工序的顺序生成所述工艺任务的工艺时序,所述工艺时序表征各所述目标工序的起止时刻。
7.根据权利要求6所述的ALC浇注工艺配置方法,其特征在于,所述多个目标工序对应的时间参数包括以下项中的至少一项:
水料下料间隔时长、干料下料间隔时长、下铝粉前搅拌时长、下铝粉后搅拌时长、浇注下料时长、浇注头下位等待时长、气泡梳理机启振时长、气泡梳理机振动时长。
8.一种ALC浇注工艺控制方法,其特征在于,应用于ALC浇注工艺的控制系统,包括:
接收MES发送的所述ALC浇注工艺的工艺任务对应的配置文件,所述工艺任务对应的配置文件是采用如权利要求1至7任一项所述的ALC浇注工艺配置方法得到的;
根据所述工艺任务对应的配置文件进行自身配置后,执行所述工艺任务。
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