[实用新型]一种铜泥快速溶解装置

说明书

本实用新型公开了一种铜泥快速溶解装置，属于铜泥处理技术领域，包括溶解罐：溶解罐顶部固定连接有盖板，盖板顶部侧壁连接有第一注液管、第二注液管和循环结构，循环结构还与溶解罐底部连接，循环结构用于物料循环流通；盖板顶部连接有抖动分散组件，抖动分散组件用于物料分散下料；通过上述方式，本实用新型溶解时第一三通阀朝第一管道打开，第二三通阀朝回流管打开，提升泵通过第二管道和第一管道抽动溶解罐内的物料进入到回流管内，回流管将物料循环加入到溶解罐内，实现物料大循环，提升物料流动性，利于进行反应，同时，避免铜泥堆积在溶解罐内底部，克服铜泥堆积后反应速度慢的问题。

技术领域

本实用新型涉及铜泥处理技术领域，具体涉及一种铜泥快速溶解装置。

背景技术

随着世界电子产业的蓬勃发展，印制线路板(PCB)行业也获得了快速发展，线路板生产过程中产生大量高浓度含铜的酸性蚀刻废液，其含铜量普遍为100～150g/L。同时这些企业在处理含铜废水时，采用中和沉淀法产生了大量含铜污泥(如信泰电子含铜污泥铜含量约7～10％)，为了蚀刻液和铜泥中的铜提取出来设计了处理思路，例如：中国专利CN101658941B一种复合提炼法从线路板生产厂废料中提取铜粉的工艺。

上述了专利处理思路的CuCl₂蚀刻液处理系统指出首先测定CuCl₂蚀刻液中Cu的浓度，将CuCl₂蚀刻液泵入中和调节反应槽中，将废碱和含铜污泥加入至中和调节反应槽，中和CuCl₂蚀刻液中的HCl，pH控制在0.5～2，上述反应一般是在溶解装置内进行的，但是含铜污泥在加入到溶解装置后由于密度容易堆积在溶解装置内底部，含铜污泥与CuCl₂蚀刻液和HCl接触减少，克服铜泥堆积后反应速度慢，即使通过搅拌结构进行搅拌含铜污泥也会出现堆积。

基于此，本实用新型设计了一种铜泥快速溶解装置以解决上述问题。

实用新型内容

针对现有技术所存在的上述缺点，本实用新型提供了一种铜泥快速溶解装置。

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：

一种铜泥快速溶解装置，包括溶解罐、第一注液管、第二注液管和盖板：

溶解罐顶部固定连接有盖板，盖板顶部侧壁连接有第一注液管、第二注液管和循环结构，所述循环结构还与溶解罐底部连接，所述循环结构用于物料循环流通；

盖板顶部连接有抖动分散组件，抖动分散组件用于物料分散下料。

更进一步的，所述循环结构包括第一管道、第一三通阀、第二管道、提升泵、第二管道、第二三通阀、排出管、回流管和进料管，提升泵输入端和输出端分别固定连接有第二管道和第二管道，第一三通阀分别与第一管道、第二管道和进料管连接，第二三通阀分别与第二管道、回流管和排出管连接。

更进一步的，第一管道固定安装于溶解罐底部，回流管固定安装于盖板侧壁上。

更进一步的，抖动分散组件包括间歇驱动组件、分散组件和抖动组件，间歇驱动组件与盖板连接，间歇驱动组件与分散组件连接，分散组件连接有抖动组件，抖动组件与溶解罐连接，间歇驱动组件间歇驱动分散组件向上移动，抖动组件恢复力带动分散组件向下移动，实现分散组件抖动分散，利于铜泥与蚀刻液和酸液充分，提升了铜泥内的铜溶解速度，溶解效率高。

更进一步的，间歇驱动组件包括电机、驱动杆、直轴和半球块，电机固定安装于盖板顶部，电机驱动端固定连接有直轴，直轴外壁沿着圆周方向等间距固定连接有驱动杆，驱动杆间歇接触有半球块。

更进一步的，分散组件包括分散箱和滤孔，分散箱内底部等间距开设有滤孔；

驱动杆沿着圆周方向等间距安装于分散箱底部。