[实用新型]一种抛光机有效

专利信息
申请号: 202223280722.6 申请日: 2022-12-08
公开(公告)号: CN218785453U 公开(公告)日: 2023-04-04
发明(设计)人: 申屠江民;王连彬;祝宇;乔其爽;李进 申请(专利权)人: 浙江莱宝科技有限公司
主分类号: B24B37/08 分类号: B24B37/08;B24B37/34;B24B55/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 321016 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 抛光机
【说明书】:

实用新型涉及抛光机技术领域,公开了一种抛光机,包括有主体、抛光盘和定位盘,主体包括底座、控制系统和驱动系统,抛光盘连接于驱动系统,抛光盘包括有上转动盘,上转动盘远离驱动系统的一侧表面依次设置有保护膜和上胶垫,定位盘设置于底座上,定位盘与上转动盘对应设置,且定位盘上设置有下胶垫,本方案通过在上转动盘与上胶垫之间设置一层保护膜,能够避免抛光过程在胶垫外边缘产生抛光粉的堆积,避免抛光粉成块后掉落造成待抛光件的不良,同时能够减少后期保养时的清洁时间,并且可以增加上胶垫的粘贴粘性和对胶垫起到保护作用,增加上胶垫的使用寿命。

技术领域

本实用新型涉及抛光机技术领域,尤其涉及一种抛光机。

背景技术

触控显示领域的基片通常采用化学机械抛光技术进行表面研磨,通过化学作用过程和机械作用过程的交替进行实现基片表面的研磨抛光,达到符合触控显示屏幕所需的基片微观波纹度和表面质量。具体的,抛光机上盘一般是铝合金材质,触控显示屏幕用基片进行抛光前,先要在抛光机上盘贴附对应基片大小的抛光胶垫,接着将待抛光基片贴附在胶垫表面,然后再对基片进行抛光加工处理,随着抛光加工的持续进行,胶垫的边缘会累积抛光粉,在进行抛光机保养时,每个上盘的胶垫边缘需要刮除抛光粉进行上盘清洁,对于每台抛光机来说需要耗费较长的时间进行清洁,增加了保养成本和保养时间,同时在抛光加工过程中胶垫的边缘会产生结块的抛光粉,在积累到一定数量后结块的抛光粉会从上盘掉落到下盘,容易产生基片的划伤,从而降低了基片抛光的良率。

因此,如何改善抛光机的生产良率和提高抛光机的清洁效率,已经成为行业内迫切需要解决的一个问题。

实用新型内容

本实用新型旨在解决至少一个背景技术中的问题。为此,本实用新型提出一种抛光机,所述抛光机具有良好的,并且。

根据本实用新型实施例的一种抛光机,包括有主体、抛光盘和定位盘,所述主体包括底座、控制系统和驱动系统;所述抛光盘连接于所述驱动系统,所述抛光盘包括有上转动盘,所述上转动盘远离所述驱动系统的一侧表面依次设置有保护膜和上胶垫;所述定位盘设置于底座上,所述定位盘与所述上转动盘对应设置,且所述定位盘上设置有下胶垫,通过在上转动盘与上胶垫之间设置一层保护膜,能够避免抛光过程在胶垫外边缘产生抛光粉的堆积,避免抛光粉成块后掉落造成待抛光件的不良,同时能够减少后期保养时的清洁时间,并且可以增加上胶垫的粘贴粘性和对胶垫起到保护作用,增加上胶垫的使用寿命。

根据本实用新型的另一个实施例,所述保护膜为PE膜、PET膜或PVC膜中的一种。

根据本实用新型的另一个实施例,所述保护膜的厚度在1mm-3mm之间。

根据本实用新型的另一个实施例,所述保护膜贴附在所述上转动盘远离所述驱动系统的一侧表面上。

根据本实用新型的另一个实施例,所述上胶垫位于所述上转动盘的中部,且所述上胶垫贴附于所述上转动盘的面积小于所述保护膜的贴附于所述上转动盘的面积。

根据本实用新型的另一个实施例,所述定位盘的面积大于所述上转动盘的面积,且所述上转动盘的投影图形全部落在所述定位盘内。

根据本实用新型的另一个实施例,所述上转动盘和所述定位盘的截面图形为圆形、椭圆形、方形中的一种。

根据本实用新型的另一个实施例,所述下胶垫为聚氨酯垫。

根据本实用新型的另一个实施例,所述驱动系统包括驱动电机和机械手,所述上转动盘与所述机械手的一端连接。

根据本实用新型的另一个实施例,所述机械手、所述上转动盘和所述定位盘与所述控制系统电连接。

与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:

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