[实用新型]一种镜面抛光设备有效
申请号: | 202223249719.8 | 申请日: | 2022-12-02 |
公开(公告)号: | CN219426500U | 公开(公告)日: | 2023-07-28 |
发明(设计)人: | 吴俊;周春煦;王东海;沈永春;何益隆 | 申请(专利权)人: | 中山市恒鑫光电科技有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B41/06;B24B47/12;B24B47/20 |
代理公司: | 合肥利交桥专利代理有限公司 34259 | 代理人: | 蔡辉 |
地址: | 528400 广东省中山市火炬开发区科技*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 抛光 设备 | ||
本实用新型涉及抛光设备技术领域,且公开了一种镜面抛光设备,包括支撑板,所述支撑板上铰接有翻转板;所述翻转板上设有存放驱动件;所述翻转板上固定安装有安装架,所述安装架通过驱动旋转机构与支撑板连接;所述安装架上设有抛光机构。本实用新型提出一种镜面抛光设备,本实用新型具有提高抛光效率,同时对产生的颗粒进行排出,减少出现颗粒覆盖抛光的现象发生。
技术领域
本实用新型涉及抛光设备领域,尤其涉及一种镜面抛光设备。
背景技术
在对片体进行加工时,为了满足需求使得其表面平整的像镜面一样,通常采取抛光设备进行处理。
在抛光处理时,通常需要一个个对其进行抛光处理,同时需要对其进行限位,增加操作的繁琐性,不利于提高抛光效率。
为解决上述问题,本申请中提出一种镜面抛光设备。
实用新型内容
(一)实用新型目的
为解决背景技术中存在的技术问题,本实用新型提出一种镜面抛光设备,本实用新型具有提高抛光效率,同时对产生的颗粒进行排出,减少出现颗粒覆盖抛光的现象发生。
(二)技术方案
为解决上述问题,本实用新型提供了一种镜面抛光设备,包括支撑板,所述支撑板上铰接有翻转板;
所述翻转板上设有存放驱动件;
所述翻转板上固定安装有安装架,所述安装架通过驱动旋转机构与支撑板连接;
所述安装架上设有抛光机构。
优选的,所述存放驱动件包括驱动电机和支撑盘,所述驱动电机固定安装在翻转板上,所述支撑盘固定套装在驱动电机驱动轴上,所述支撑盘上开设有若干个存放槽,所述存放槽的内部放置有加工件。
优选的,所述驱动旋转机构包括转杆、套环和多级液压缸,所述多级液压缸的一端通过转轴与支撑板转动连接,所述转杆的一端伸入安装架的内部,并与安装架转动连接,所述套环转动套接在转杆的外周,所述套环的外周壁与多级液压缸的驱动杆固定连接。
优选的,所述抛光机构包括气缸、连接板、伺服电机和打磨盘,所述气缸固定安装在安装架上,所述气缸驱动杆的端部通过连接板与伺服电机固定连接,所述打磨盘固定套装在伺服电机驱动轴上。
优选的,所述连接板顶部的两侧均固定安装有限位杆,所述限位杆的一端滑动穿过安装架。
优选的,所述支撑板通过合页与翻转板铰接。
本实用新型的上述技术方案具有如下有益的技术效果:
将加工件放置在存放槽的内部,气缸带动打磨盘压向加工件,多级液压缸伸长,以带动安装架和翻转板进行翻转,致使支撑盘倾斜,驱动电机和伺服电机分别带动支撑盘和打磨盘相反转动,以对加工件进行打磨,产生的颗粒,在支撑盘、打磨盘的转动和倾斜的作用下,进行排出颗粒,增加以使得颗粒分离出,减少出现打磨盘辅助颗粒打磨的现象发生,增加打磨效果,同时提高打磨效率。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种镜面抛光设备的结构示意图。
图2为本实用新型提出的一种镜面抛光设备中支撑盘的结构示意图。
图3为本实用新型提出的一种镜面抛光设备中抛光机构的结构示意图。
附图标记:1、支撑板;2、翻转板;3、安装架;4、驱动电机;5、支撑盘;6、转杆;7、套环;8、多级液压缸;9、气缸;10、连接板;11、伺服电机;12、限位杆;13、存放槽;14、加工件;15、打磨盘。
具体实施方式
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