[实用新型]石墨镜面研磨机

说明书

本申请涉及一种石墨镜面研磨机，包括箱体以及安装于箱体内的驱动组件和喷淋组件，所述箱体上设有工作台，所述工作台上设有容置腔，所述容置腔的底部设有研磨板，所述驱动组件连接于所述研磨板且所述驱动组件能够带动所述研磨板转动，所述研磨板上铺设抛光片，所述工作台上安装限定组件，产品放置于所述抛光片上，所述产品外侧套设有保护罩，所述限定组件用于保护罩的定位，且所述保护罩和产品能够相对于所述限定组件进行转动，所述喷淋组件用于向所述产品上喷洒研磨液。本研磨机通过选择合适的研磨液粒度，并通过产品的自转和抛光片的转动，对产品进行研磨抛光，达到了高标准的表面粗糙度和平面度的要求。

技术领域

本申请涉及研磨机，具体涉及一种石墨镜面研磨机。

背景技术

目前，在石墨加工技术领域中，一般有精度要求的表面粗糙度和平面度的石墨零件基本上都采用磨床加工，虽然磨床加工可以达到很高的表面粗糙度和平面度，但要做到石墨件表面超精密加工和镜面效果，用磨床是无法达到的，而且磨床加工时间长、效率低、成本高。

实用新型内容

为了克服上述缺陷，本申请提供一种石墨镜面研磨机，该研磨机通过选择合适的研磨液粒度，并通过产品的自转和抛光片的转动，对产品进行研磨抛光，达到了高标准的表面粗糙度和平面度的要求。

本申请为了解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种石墨镜面研磨机，包括箱体以及安装于箱体内的驱动组件和喷淋组件，所述箱体上设有工作台，所述工作台上设有容置腔，所述容置腔的底部设有研磨板，所述驱动组件连接于所述研磨板且所述驱动组件能够带动所述研磨板转动，所述研磨板上铺设抛光片，所述工作台上安装限定组件，产品放置于所述抛光片上，所述产品外侧套设有保护罩，所述限定组件用于保护罩的定位，且所述保护罩和产品能够相对于所述限定组件进行转动，所述喷淋组件用于向所述产品上喷洒研磨液。

优选地，所述抛光片为耐水砂纸为基体制备而成的抛光片，所述抛光片的上表面涂覆一层刚玉耐磨层，所述抛光片的下表面通过胶水粘贴于所述研磨板上。

优选地，所述产品上压合压块，所述压块为砝码。

优选地，所述限定组件包括限定架和滚轮，所述限定架固定安装于所述工作台上，所述限定架上设有弧形面，且所述弧形面两端的限定架上各设有一滚轮，所述滚轮可转动地安装于所述限定架上，且所述滚轮突出于所述弧形面。

优选地，所述保护罩呈内部中空的圆柱体结构，且所述保护罩的下端设有若干均匀布置的缺口，所述保护罩的外侧壁贴合于所述滚轮。

优选地，所述缺口呈方形、半圆形、半椭圆形、倒U形或倒V形。

优选地，所述驱动组件包括伺服电机和减速机，所述减速机的转轴连接于所述研磨板。

优选地，所述喷淋组件包括储液槽、循环泵和出液管，所述循环泵的一端通过管路连通于所述储液槽，所述循环泵的另一端连接于所述出液管的一端，所述储液管伸出所述工作台且所述储液管伸于所述产品的上方。

本申请的有益效果是：本申请包括研磨板、抛光片、驱动组件、限定组件、保护罩和喷淋组件，带研磨的石墨产品置于保护罩内，限位组件用于定位保护罩，驱动组件用于控制研磨板的转动，喷淋组件用于向产品表面喷洒研磨液；当驱动组件驱动抛光片转动时，产品在抛光片和限定组件共同的作用下，产品在原位进行自转，自转的产品与转动的抛光片作相对运转产生摩擦，能够精确地控制产品的研磨尺寸和并能够达到平面镜面效果，同时喷淋组件向产品喷洒所需粒度的研磨液而起到乳化、润滑和冷却的作用，进一步提高了产品研磨的效果。本研磨机在选择合理的研磨液粒度的情况下，研磨的产品能够达到表面粗糙度Ra0.02、平面度0.005mm，因此可以满足平面零件对几何精度和表面粗糙度等指标高精度的要求。

附图说明

图1为本申请的结构示意图之一；

图2为本申请的结构示意图之二；