[实用新型]一种新型压印结构有效

专利信息
申请号: 202222988549.9 申请日: 2022-11-10
公开(公告)号: CN218917916U 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 申建雷;李凡月;沈宝良;黄伟 申请(专利权)人: 拾斛科技(南京)有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 南京睿之博知识产权代理有限公司 32296 代理人: 周中民
地址: 211800 江苏省南京市江北*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 压印 结构
【权利要求书】:

1.一种新型压印结构,包括基底层以及布置在基底层之上的压印层,其特征在于:所述基底层与压印层之间布置用于促进基底层与压印层之间结合力的增强层,所述增强层采用无机透明氧化物薄膜。

2.根据权利要求1所述的一种新型压印结构,其特征在于:所述无机透明氧化物薄膜的折射率或等效折射率与压印层材料折射率的差小于0.001,无机透明氧化物薄膜在可见光波段透过率大于90%。

3.根据权利要求2所述的一种新型压印结构,其特征在于:所述无机透明氧化物薄膜为单层,厚度为80nm,材质为二氧化硅。

4.根据权利要求2所述的一种新型压印结构,其特征在于:所述无机透明氧化物薄膜为多层,各层无机透明氧化物薄膜采用相同材质或不同材质。

5.根据权利要求3或4所述的一种新型压印结构,其特征在于:所述压印层的材质为压印光刻胶。

6.根据权利要求5所述的一种新型压印结构,其特征在于:所述压印层具有微透镜阵列结构。

7.根据权利要求1所述的一种新型压印结构,其特征在于:所述无机透明氧化物薄膜与基底层之间布置金属铬层,金属铬层具有透光区域和不透光区域。

8.根据权利要求1所述的一种新型压印结构,其特征在于:所述基底层为单层,材质为玻璃、塑料或金属。

9.根据权利要求1所述的一种新型压印结构,其特征在于:所述基底层为多层,各层基底层采用相同材质或不同材质,相邻基底层之间布置增强层。

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