[实用新型]一种用于气体聚焦峰形冷阱

说明书

本申请涉及一种用于气体聚焦峰形冷阱，属于挥发性有机物气体分析技术领域，主要应用于气相色谱‑质谱进样前处理仪器设备。相关技术对于高、低浓度挥发性有机化合物气体样品进样时，出现的峰的响应减弱、峰形重叠等问题。本申请提供的一种用于气体聚焦峰形冷阱，首先将气体样品通入到该气体聚焦峰形冷阱的化合物通道中，利用冷冻腔室内部的冷冻介质将样品冻结。化合物通道设置于升温通道内部，当冻结结束后，通过升温通道迅速对冻结的样品进行加热,短时间将化合物通道内的挥发性有机化合物解析出并向气相色谱中的色谱柱转移，脱附出全部的挥发性有机化合物，在气相色谱‑质谱仪器中的峰形较高、尖、分离完整、不拖尾且数据有效性高。

技术领域

本申请涉及挥发性有机物气体分析技术领域，尤其是涉及一种用于气体聚焦峰形冷阱。

背景技术

气相色谱-质谱联用技术利用了气相色谱优良的分离性和质谱鉴定的高选择性，可实现复杂混合有机物的定性及定量测定。当前，一台气相色谱-质谱（GC-MS）仪器在进样高、低浓度挥发性有机化合物气体时，进样方式主要有以下几种：注射器+螺口针头+定量管、注射器+高压旋转阀、主泵或辅泵进样以及固体吸附法进样等。其中注射器+螺口针头+定量管最省，实验室多采用，而工厂用通过主泵或辅泵进样为多。

然而，气相色谱-质谱（GC-MS）仪器在同时针对高、低浓度挥发性有机化合物气体样品进样时，样品在快速升温、短流程、固定的零死体积及高流速的条件下，样品会产生扩散，使较早出现的峰的响应减弱、峰形重叠等问题。

实用新型内容

为了改善气体样品产生扩散而导致较早出现的峰的响应减弱，峰形重叠的问题，本申请提供一种用于气体聚焦峰形冷阱。

本申请提供的一种用于气体聚焦峰形冷阱，采用如下的技术方案。

一种用于气体聚焦峰形冷阱，包括冷阱外壳，所述冷阱外壳内部设置有用于容置冷冻介质的冷冻腔室，所述冷冻腔室内设置有用于供高、低浓度挥发性有机化合物气体流通的化合物通道以及用于供预热介质通过的升温通道，所述化合物通道设置于所述升温通道内部，所述冷冻腔室能够对所述化合物通道和所述升温通道同时进行降温。

通过采用上述技术方案，在气相色谱-质谱（GC-MS）仪器同时针对高、低浓度挥发性有机化合物气体样品进样前，首先将高、低浓度挥发性有机化合物气体通入到该气体聚焦峰形冷阱的化合物通道中，利用冷冻腔室内部的冷冻介质将样品冻结。由于化合物通道设置于升温通道内部，当冻结结束后，通过升温通道迅速对冻结的样品进行加热,短时间将化合物通道内的挥发性有机化合物解析出并向气相色谱中的色谱柱转移，脱附出全部的挥发性有机化合物，利用挥发性有机化合物自身的特性，在气相色谱-质谱仪器中的峰形较高、尖、分离完整、不拖尾且数据有效性高，从而改善气体样品产生扩散而导致较早出现的峰的响应减弱，峰形重叠的问题。

可选的，还包括热量传导管、设置于所述热量传导管内的热量均布管以及设置于所述热量均布管内的化合物管，所述化合物通道形成于所述化合物管内，所述升温通道形成于所述热量均布管和所述热量传导管之间。

通过采用上述技术方案，热量均布管同轴设置于热量传导管内，化合物管同轴设置于热量均布管内，从而实现化合物通道直径一致，升温通道距离化合物通道内的间距均匀，保证升温通道迅速对化合物通道内冻结的样品进行加热的过程中，冻结的化合物受热均匀，解析出的峰形更加稳定。

可选的，所述化合物管的内部涂布有用于对极性挥发性有机化合物进行吸附的薄膜硅烷化涂层。

通过采用上述技术方案，在化合物管的内部涂布薄膜硅烷化涂层，从而提高对于极性挥发性有机化合物吸附的稳定性与容量，提高该气体聚焦峰形冷阱的饱和阈值。

可选的，所述化合物管、所述热量均布管以及所述热量传导管共同构成冷阱管道，所述冷阱管道具有穿设于所述冷阱外壳并伸出的外延部以及回环设置以减小占用体积的受冷部，所述受冷部设置于所述冷冻腔室内并与所述外延部连通。