[实用新型]气液限域催化氧化装置

权利要求书

1.气液限域催化氧化装置，包括氧化塔(1)，其特征在于：还包括：

催化组件(3)，所述催化组件(3)位于氧化塔(1)内部，且至少设有两组，所述催化组件(3)用于承载催化剂，且所述催化组件(3)上设有若干透气部位，所述透气部位用于让气相穿过并与催化组件(3)承载的催化剂接触；

回流组件(4)，所述回流组件(4)位于催化组件(3)下方，用于盛接催化组件(3)反应后生成的液相，所述回流组件(4)至少包括一气体上升部和一导流部，所述气体上升部用于气相通过回流组件(4)上升至上方的催化组件(3)，所述导流部用于阻止所述液相进入气体上升部并将所述液相导出氧化塔(1)。

2.如权利要求1所述的气液限域催化氧化装置，其特征在于：所述氧化塔(1)的内部空间为反应仓(11)，所述反应仓(11)上方安装有用于注入催化剂的第一导管(12)，所述反应仓(11)内部且位于第一导管(12)上安装有可以连通喷淋催化剂的喷头(2)，所述喷头(2)正对催化组件(3)。

3.如权利要求2所述的气液限域催化氧化装置，其特征在于：所述反应仓(11)下方安装有能够接入外界待催化氧化气体的第二导管(13)，所述反应仓(11)上安装有与能够排出液相的循环排出管(14)。

4.如权利要求1所述的气液限域催化氧化装置，其特征在于：所述催化组件(3)包括上催化盘(31)和下催化盘(32)，所述上催化盘(31)和下催化盘(32)二者均设有内腔，且所述内腔中填充有用于装载催化剂的蓄液部位。

5.如权利要求1所述的气液限域催化氧化装置，其特征在于：所述回流组件(4)包括导流锥形盘(41)，所述导流锥形盘(41)中间高四周低，且能够将液相通过下方回流锥形台(43)导流至回流环(44)内。

6.如权利要求5所述的气液限域催化氧化装置，其特征在于：所述回流锥形台(43)上设有可供气体上升穿过的通气部位，所述通气部位位于所述导流锥形盘(41)正下方，且所述导流锥形盘(41)的覆盖面积不小于所述通气部位所占面积。