[实用新型]一种陶瓷坯体自动施釉装置

说明书

本实用新型属于陶瓷上釉技术领域，具体为一种陶瓷坯体自动施釉装置，包括底座和立柱，所述底座表面焊接有立柱，所述立柱内腔设有气动伸缩杆，所述立柱内腔活动插接有升降柱，所述升降柱端部安装有旋转电机，所述旋转电机的动力输出端连接有旋转座，所述旋转座下表面设有夹具，所述底座表面的安装槽内腔底部嵌合有搅拌电机，且安装槽内活动设有储料桶，所述储料桶内腔底部转动设有搅拌桨，所述底座表面的安装槽两侧对称开设有限位槽；本新型以解决目前现有设备在对陶瓷碗柸体进行上釉时，釉料容易发生沉淀，且陶瓷碗柸体在釉料接触不均匀，从而导致对陶瓷碗柸体的上釉均匀性不佳的问题。

技术领域

本实用新型涉及陶瓷上釉技术领域，具体为一种陶瓷坯体自动施釉装置。

背景技术

专利号：CN216884511 U，该专利包括机架，所述机架上设有安装座、支撑柱、下压机构、电机和喷釉机构，所述安装座通过轴套连接有转盘，所述转盘的底面与支撑柱的顶端抵接，所述下压机构与轴套配合夹紧瓷器坯料，所述电机驱动转盘转动，所述喷釉机构上设有用于给瓷器坯料外侧壁上釉的第一喷头，所述下压机构包括设于机架顶端的气缸，所述气缸的推送杆上设有压块，所述压块包括与推送杆连接的固定块，所述固定块上套设有用于下压瓷器坯料的转动环；本实用新型提供的陶瓷上釉装置结构合理，能保证上釉均匀，提升生产效率。

目前现有设备在对陶瓷碗柸体进行上釉时，釉料容易发生沉淀，且陶瓷碗柸体在釉料接触不均匀，从而导致对陶瓷碗柸体的上釉均匀性不佳，为解决上述问题，本申请中提出一种陶瓷坯体自动施釉装置。

实用新型内容

(一)实用新型目的

为解决背景技术中存在的技术问题，本实用新型提出一种陶瓷坯体自动施釉装置，以解决目前现有设备在对陶瓷碗柸体进行上釉时，釉料容易发生沉淀，且陶瓷碗柸体在釉料接触不均匀，从而导致对陶瓷碗柸体的上釉均匀性不佳的问题。

(二)技术方案

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种陶瓷坯体自动施釉装置，包括底座和立柱，所述底座表面焊接有立柱，所述立柱内腔设有气动伸缩杆，所述立柱内腔活动插接有升降柱，所述升降柱端部安装有旋转电机，所述旋转电机的动力输出端连接有旋转座，所述旋转座下表面设有夹具，所述底座表面的安装槽内腔底部嵌合有搅拌电机，且安装槽内活动设有储料桶，所述储料桶内腔底部转动设有搅拌桨。

优选的，所述底座表面的安装槽两侧对称开设有限位槽，所述储料桶外壁两侧对称设有限位座，所述限位座与限位槽相互插接。

优选的，所述立柱两侧对称焊接有限高柱，所述限高柱表面滑动设有滑座，所述滑座上螺纹连接有锁紧螺栓，两组所述滑座之间连接有限高杆，所述限高杆表面设有缓冲垫。

优选的，所述限高柱一侧表面镶嵌有刻度尺。

优选的，所述搅拌桨底部连接有驱动插座，所述驱动插座与搅拌电机的动力输出端插接相连。

优选的，所述夹具由固定环和移动环组成，所述移动环和固定环拼接成圆形结构，且固定环和移动环内壁设有橡胶圈。

优选的，所述固定环两端活动插接有推杆，所述推杆一端与移动环相连，所述推杆表面套设有支撑弹簧。

本实用新型的上述技术方案具有如下有益的技术效果：

1、本实用新型，通过搅拌电机对搅拌桨进行驱动，通过搅拌桨对釉料进行搅动，可防止釉料发生沉淀，影响釉料的均匀性，气动伸缩杆收缩可带动升降柱下降，从而将陶瓷碗柸体沉入釉料中，旋转电机通过旋转座带动陶瓷碗柸体进行旋转，可使陶瓷碗柸体表面与釉料充分接触，可提升对陶瓷碗柸体上釉的均匀性，从而提升对陶瓷碗柸体的上釉质量。

2、本实用新型，使储料桶内的液面高度保持一致，升降柱在下降时通过限高杆进行限位，可使陶瓷碗柸体在上釉时，沉入釉料中的深度相同，使对釉面高度控制更加精准。

附图说明