[实用新型]一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统有效

专利信息
申请号: 202221044286.X 申请日: 2022-04-29
公开(公告)号: CN217341289U 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 吕强;刘成彬;汪令杰;唐年华;李新欣;高帅 申请(专利权)人: 合盛硅业(泸州)有限公司
主分类号: B01J8/24 分类号: B01J8/24
代理公司: 成都睿道专利代理事务所(普通合伙) 51217 代理人: 许立
地址: 646000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 硅烷 单体 合成 催化剂 连续 系统
【说明书】:

实用新型涉及生产系统,为了减少氯硅烷生产过程中的铜粉浪费,提供了一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统,包括铜粉储存罐,与铜粉储存罐连接的铜粉流化床,与铜粉流化床连接的反应流化床,以及氯甲烷供应装置;铜粉流化床和反应流化床同时与氯甲烷供应装置连通。本实用新型的氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统,能够显著减小氯硅烷生产过程中的铜粉使用量。

技术领域

本实用新型涉及生产系统的技术领域,具体而言,涉及一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统。

背景技术

直接法合成甲基氯硅烷是以硅粉和氯甲烷为原料,在铜催化剂作用下,高温加热进行反应,生成甲基氯硅烷混合单体。

氯甲烷经气化和预热后,从气体分布器进入流化床内,以一定气速维持稳定的循环,硅粉和铜粉按一定比例从流化床下部进料口补入床内,在一定的反应温度下,催化剂铜粉在硅粉颗粒表面与Si元素结合为Si-Cu触体后再与氯甲烷反应生成甲基氯硅烷,并随着反应的进行硅粉颗粒逐步减小,当减小到一定粒径以下时被带出。

因硅铜结合从硅粉表面进行,则铜粉粒径必须远小于硅粉才能增大接触面积并很好与硅粉结合,且流化床气速控制要优先满足托起硅粉,相对硅粉粒径小得多的铜粉就会被流化气速带出,则必须使补入的铜粉在被带出之前就与硅粉结合,依附于硅粉颗粒之上就不会被带出,而开始参与催化反应。

现目前为了提高反应效率,就需要使硅粉表面结合足够量的铜粉,而这样就必须加大铜粉的供给量,这样就会导致大量的铜粉浪费,不仅提高了原料成本,也提高了铜粉的回收成本。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统,其能够显著减小氯硅烷生产过程中的铜粉使用量。

本实用新型的实施例通过以下技术方案实现:本实用新型的氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统,包括铜粉储存罐,与所述铜粉储存罐连接的铜粉流化床,与所述铜粉流化床连接的反应流化床,以及氯甲烷供应装置;所述铜粉流化床和所述反应流化床同时与所述氯甲烷供应装置连通。

进一步地,还包括设于所述铜粉储存罐和所述铜粉流化床之间的铜粉缓冲罐。

进一步地,所述铜粉流化床包括罐体,设于所述罐体内的环形的铜粉管,与所述铜粉管其中一端端部导通连接的连接管,多个开设于所述铜粉管侧壁的铜粉孔,以及设于所述罐体下端的进气管;所述连接管设于所述罐体外的一端与所述铜粉缓冲罐导通连接;所述进气管远离所述罐体的一端与所述氯甲烷供应装置导通连接。

进一步地,所述铜粉管为螺旋形。

进一步地,所述铜粉孔开设于所述铜粉管内侧壁。

进一步地,所述铜粉孔的开口朝下设置。

进一步地,所述铜粉流化床还包括设于所述罐体内底部的导流块,以及多件连接杆;所述导流块与所述罐体内侧壁和内底壁之间均设有间隙;所述铜粉管靠近所述罐体的内侧壁设置;所述连接杆用以连接所述导流块和所述罐体。

进一步地,所述导流块为双锥形。

本实用新型实施例的技术方案至少具有如下优点和有益效果:本实用新型的氯硅烷单体合成用铜催化剂连续补加系统,在铜粉进入反应流化床之前使其先进入铜粉流化床,然后使用氯甲烷先将铜粉流化床内的铜粉流化均匀,再进入到反应流化床中,这样不仅能够使补加铜粉的均匀度更高,而且还能够显著减少铜粉的用量,提高反应效率,降低资源浪费。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

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