[实用新型]反应槽及玻片处理装置

权利要求书

1.一种反应槽，其特征在于，包括槽体组件和盖体组件；

所述槽体组件包括底板和框体，所述底板与所述框体的底端固定连接，所述框体内具有环状侧壁，所述环状侧壁与所述底板形成槽体，所述槽体的顶部形成开口；

所述盖体组件包括顶板和盖体，所述顶板与所述框体转动连接，所述盖体固定在所述顶板的内表面上，所述盖体能够敞开或封闭所述开口，且所述盖体内设有保温层。

2.根据权利要求1所述的反应槽，其特征在于，所述反应槽还包括导流机构；

所述盖体具有第一边缘，所述盖体的内表面沿竖直方向设置时，所述第一边缘位于所述盖体的底端；

所述导流机构包括导流面，所述导流面的一端与所述第一边缘固定，且所述导流面与所述盖体的内表面倾斜设置；

所述盖体敞开所述开口时，所述盖体上的液体能够流入所述导流面并沿所述导流面流入所述开口；所述盖体封闭所述开口时，所述导流机构伸入所述槽体。

3.根据权利要求2所述的反应槽，其特征在于，所述导流机构包括第一板体和第二板体；

所述第一板体和所述第二板体的外轮廓均为直角三角形；

所述第一板体包括第一边、第二边和第三边，所述第一边与所述第二边垂直，所述第三边连接在所述第一边和所述第二边之间；

所述第二板体包括第四边、第五边和第六边，所述第四边与所述第五边垂直，所述第六边连接在所述第四边和所述第五边之间；

所述第二边与所述第五边相对设置并连接，所述第一边和所述第四边分别与所述第一边缘连接；

所述第一板体和所述第二板体关于所述第二边对称设置；且所述第一板体与所述第二板体倾斜设置；

所述盖体还具有第二边缘，所述第二边缘与所述第一边缘相对设置；所述第一边和所述第四边分别朝向所述第二边缘倾斜。

4.根据权利要求1所述的反应槽，其特征在于，所述底板包括耐蚀层和导热层；所述导热层设置在所述耐蚀层下方。

5.根据权利要求4所述的反应槽，其特征在于，所述导热层与所述耐蚀层之间填充有导热材料。

6.根据权利要求1所述的反应槽，其特征在于，所述底板上设有通孔；

所述环状侧壁包括第一侧壁，所述第一侧壁上设有挡件，所述挡件与所述通孔相对设置。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的反应槽，其特征在于，所述反应槽还包括制冷片；所述制冷片的一个端面与所述底板远离所述框体的端面贴合。

8.根据权利要求7所述的反应槽，其特征在于，所述反应槽还包括散热器；所述散热器与所述制冷片远离所述底板的端面贴合。

9.根据权利要求1-6中任一项所述的反应槽，其特征在于，所述槽体内设有温度检测器。

10.一种玻片处理装置，其特征在于，包括权利要求1-9中任一项所述的反应槽。