[实用新型]一种羟基氧化除臭设备

权利要求书

1.一种羟基氧化除臭设备，其特征在于，包括用于抽取环境中空气的空压机，与空压机连接的进气除湿装置，与进气除湿装置连接的分子筛制氧机，与分子筛制氧机连接的臭氧发生器，用于接入供水的净水过滤器，与净水过滤器连接的进水储水桶，与臭氧发生器和进水储水桶均连接的气液混合泵，与气液混合泵连接的混合储水桶，以及与混合储水桶连接的高压喷淋装置，其中，所述进气除湿装置通过制冷的方式使流经的空气中的水分冷凝析出，减少进入分子筛制氧机内空气的水分含量。

2.根据权利要求1所述的羟基氧化除臭设备，其特征在于，所述进气除湿装置包括带有进口端和出口端的过气腔体，设置于过气腔体一侧上的半导体制冷片，与半导体制冷片电连接的控制电路，以及连接于过气腔体下部的排水过滤器，其中，过气腔体的进口端接空压机出口，过气腔体的出口端接分子筛制氧机入口，所述半导体制冷片对过气腔体内部制冷将流经过气腔体内的空气中的水分降温冷凝析出，冷凝析出的液体流入排水过滤器内临时存储并定量排出。

3.根据权利要求2所述的羟基氧化除臭设备，其特征在于，所述过气腔体内设有多个导温翅片，该导温翅片与半导体制冷片所在的过气腔体侧壁连接。

4.根据权利要求3所述的羟基氧化除臭设备，其特征在于，所述导温翅片将过气腔体内腔分隔为多个由进口端向出口端走向的气流通道，这些气流通道在靠近进口端处形成气流分配腔，并在靠近出口端处形成气流汇聚腔。

5.根据权利要求2所述的羟基氧化除臭设备，其特征在于，所述半导体制冷片的制冷一侧贴附于过气腔体侧壁上，其产热一侧设置有散热器或贴附于进水储水桶安置。

6.根据权利要求2所述的羟基氧化除臭设备，其特征在于，所述过气腔体安置半导体制冷片的侧壁设有定位板，该定位板上开设有用于限定半导体制冷片的安置位置的安装位，所述过气腔体上设有用于外部连接和保护半导体制冷片的连接防护件。

7.根据权利要求6所述的羟基氧化除臭设备，其特征在于，所述过气腔体安置半导体制冷片的侧壁由导热材料制成，所述定位板由隔热材料制成。

8.根据权利要求2所述的羟基氧化除臭设备，其特征在于，所述过气腔体内设有与控制电路电连接的温度探头。

9.根据权利要求2～8任一项所述的羟基氧化除臭设备，其特征在于，所述过气腔体由基板、端板、侧板和盖板固定连接为一封闭的呈扁盒状的腔室，所述进口端和出口端分别设置于两个端板上，两个端板、两个侧板和导温翅片均垂直连接于基板上，端板与侧板相互垂直，盖板与基板平行并与端板、侧板和导温翅片连接。

10.根据权利要求1～8任一项所述的羟基氧化除臭设备，其特征在于，所述气液混合泵连接混合储水桶的管道端口设置有纳米气泡器，将气液混合泵输出的混合液体中的臭氧气泡纳米化，提高臭氧在液体中的溶解度。