[实用新型]一种酸性蚀刻液电解处理用废液中转缸有效
申请号: | 202220747639.6 | 申请日: | 2022-04-01 |
公开(公告)号: | CN217745848U | 公开(公告)日: | 2022-11-08 |
发明(设计)人: | 马玉涛 | 申请(专利权)人: | 安徽中科冉图环保科技有限公司 |
主分类号: | B01D21/02 | 分类号: | B01D21/02 |
代理公司: | 合肥金律专利代理事务所(普通合伙) 34184 | 代理人: | 段晓微 |
地址: | 237000 安徽省六安市裕安区*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 酸性 蚀刻 电解 处理 废液 中转 | ||
本实用新型公开了一种酸性蚀刻液电解处理用废液中转缸,缸体内设有储液空间,所述储液空间内设有从底部向上伸出的隔板,隔板将所述储液空间分隔为沉降腔和缓冲腔且在隔板上方形成连通所述沉降腔和所述缓冲腔的连通口,所述缓冲腔侧壁设有进液口,所述缓冲腔内设有液位传感器,所述沉降腔顶部设有出液口。通过上述优化设计的酸性蚀刻液电解处理用废液中转缸,用于存储待处理的蚀刻液废液,通过缓冲腔和沉降腔的设计,在废液电解处理前,对废液进行冷却的同时,有效沉降废液中含有的固体杂质,避免后续电解时对电极板的损伤。
技术领域
本实用新型涉及酸性蚀刻液电解处理技术领域,尤其涉及一种酸性蚀刻液电解处理用废液中转缸。
背景技术
印刷电路板(简称:PCB)在生产过程中需要用到蚀刻工艺,蚀刻工艺需用到大量蚀刻液原液,同时会产生大量的蚀刻液废液。常用的酸性蚀刻液原液的主要成分为氯化铜、浓盐酸、双氧水、水及其他组分。在PCB蚀刻后产生的蚀刻液废液中,根据化学式可知CU+H202+2HCL=CUCl2+2H2O,其中含大量经济价值较高的铜。为了避免处理过程中在废液中引入其他杂质,通常采用电解处理,电解后能够有效实现对铜的回收。然而,由于电解处理过程会产生热量,而蚀刻液废液本身温度较高,电解时高温电解液会影响电解效率,进而影响铜回收率。
实用新型内容
为解决背景技术中存在的技术问题,本实用新型提出一种酸性蚀刻液电解处理用废液中转缸。
本实用新型提出的一种酸性蚀刻液电解处理用废液中转缸,包括:缸体;
缸体内设有储液空间,所述储液空间内设有从底部向上伸出的隔板,隔板将所述储液空间分隔为沉降腔和缓冲腔且在隔板上方形成连通所述沉降腔和所述缓冲腔的连通口,所述缓冲腔侧壁设有进液口,所述缓冲腔内设有液位传感器,所述沉降腔顶部设有出液口。
优选地,所述沉降腔的容积大于所述缓冲腔的容积。
优选地,所述缓冲腔侧壁设有水平布置的第一加强板。
优选地,所述缓冲腔内壁设有自上而下依次设置的多个第一加强板。
优选地,所述沉降腔内壁设有第二加强板,第二加强板沿所述沉降腔内壁延伸形成环形结构。
优选地,所述沉降腔内壁设有自上而下依次设置的多个第二加强板。
优选地,所述缓冲腔侧壁设有第一加强板,所述第一加强板和所述第二加强板位于同一水平面上。
优选地,所述第一加强板位于所述缓冲腔远离所述沉降腔一侧内壁上。
优选地,所述出液口处设有透明盖板。
优选地,缸体顶部设有围绕出液口延伸的环形凸台,环形凸台围绕透明盖板布置。
本实用新型中,所提出的酸性蚀刻液电解处理用废液中转缸,缸体内设有储液空间,所述储液空间内设有从底部向上伸出的隔板,隔板将所述储液空间分隔为沉降腔和缓冲腔且在隔板上方形成连通所述沉降腔和所述缓冲腔的连通口,所述缓冲腔侧壁设有进液口,所述缓冲腔内设有液位传感器,所述沉降腔顶部设有出液口。通过上述优化设计的酸性蚀刻液电解处理用废液中转缸,用于存储待处理的蚀刻液废液,通过缓冲腔和沉降腔的设计,在废液电解处理前,对废液进行冷却的同时,有效沉降废液中含有的固体杂质,避免后续电解时对电极板的损伤。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种酸性蚀刻液电解处理用废液中转缸的一种实施方式的结构示意图。
图2为本实用新型提出的一种酸性蚀刻液电解处理用废液中转缸的一种实施方式的内部结构示意图。
具体实施方式
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