[实用新型]扩散炉爬高装置

说明书

本实用新型涉及一种扩散炉爬高装置，所述扩散炉爬高装置包括：支架，所述支架设有底座；固定平台，所述固定平台与所述支架连接，且所述固定平台沿所述支架的高度方向与所述底座间隔设置；爬梯，所述爬梯与一端与所述底座连接，所述爬梯的另一端与所述固定平台连接；第一伸缩台，所述第一伸缩台与所述固定平台活动连接，所述第一伸缩台能够相对所述支架靠近或远离所述固定平台运动。上述扩散炉爬高装置，当工作人员需要进入扩散炉设备内部时，将第一伸缩台拉出，使得工作人员通过第一伸缩台能够靠近扩散炉，并进入扩散炉的内部，进而有利于提高扩散炉的检修便利性，满足现场实际需求，提高检修的工作效率。

技术领域

本实用新型涉及单晶电池片生产设备技术领域，特别是涉及一种扩散炉爬高装置。

背景技术

扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。它的主要用途是对半导体进行掺杂，即在高温条件下将掺杂材料扩散入硅片，从而改变和控制半导体内杂质的类型、浓度和分布，以便建立起不同的电特性区域。虽然某些工艺可以使用离子注入的方法进行掺杂，但是热扩散仍是最主要、最普遍的掺杂方法。硅的热氧化作用是使硅片表面在高温下与氧化剂发生反应，生长一层二氧化硅膜。氧化方法有干氧氧化和水汽氧化(含氢氧合成)两种，扩散炉是用这两种氧化方法制备氧化层的必备设备。扩散炉是半导体集成电路工艺的基础设备，它与半导体工艺互相依存、互相促进、共同发展。

传统技术中，因扩散炉比较高，且内部空间有限，扩散炉需要维修时，设备人员维保操作无法进行，如强行进入设备内部会造成人员烫伤、工装夹具损坏，产品损坏，设备原件损坏，借助普通人字拖不能不可以进入设备进步作业。

实用新型内容

基于此，有必要克服现有技术的缺陷，提供一种扩散炉爬高装置，能够方便工作人员进入扩散炉，有效提高扩散炉的维修便利性。

其技术方案如下：一种扩散炉爬高装置，所述扩散炉爬高装置包括：支架，所述支架设有底座；固定平台，所述固定平台与所述支架连接，且所述固定平台沿所述支架的高度方向与所述底座间隔设置；爬梯，所述爬梯与一端与所述底座连接，所述爬梯的另一端与所述固定平台连接；第一伸缩台，所述第一伸缩台与所述固定平台活动连接，所述第一伸缩台能够相对所述支架靠近或远离所述固定平台运动。

上述扩散炉爬高装置，在安装过程中，将固定平台与支架连接，将爬梯的两端分别连接于固定平台与底座上，然后将第一伸缩台与固定平台活动连接。在对扩散炉进行检修时，首先，工作人员将扩散炉爬高装置移动至扩散炉旁边；然后，工作人员通过爬梯爬到固定平台上；当工作人员需要进入扩散炉设备内部时，将第一伸缩台拉出，使得工作人员通过第一伸缩台能够靠近扩散炉，并进入扩散炉的内部，进而有利于提高扩散炉的检修便利性，满足现场实际需求，提高检修的工作效率。

在其中一个实施例中，所述第一伸缩台与所述固定平台滑动连接，所述第一伸缩台能够沿所述固定平台的宽度方向运动，所述固定平台设有锁定件，所述第一伸缩台伸出时，所述第一伸缩台与所述锁定件锁定配合。

在其中一个实施例中，所述固定平台设有护栏，所述护栏与所述固定平台可拆卸连接。

在其中一个实施例中，所述爬梯设有围栏，所述围栏与所述爬梯可拆卸连接。

在其中一个实施例中，所述围栏为至少两个，两个围栏沿所述爬梯的宽度方向分别设置于所述爬梯的相对两侧。

在其中一个实施例中，所述围栏与所述爬梯卡扣连接。

在其中一个实施例中，所述扩散炉爬高装置还设有第二伸缩台，所述第二伸缩台与所述底座活动连接，所述第二伸缩台能够相对所述支架靠近或远离所述底座运动。

在其中一个实施例中，所述第二伸缩台与所述底座滑动连接，所述第二伸缩台能够沿所述底座的宽度方向运动，所述底座设有锁定件，所述第二伸缩台伸出时，所述第二伸缩台与所述锁定件锁定配合。