[实用新型]一种匀胶铬版涂胶用治具存储装置有效
申请号: | 202220451312.4 | 申请日: | 2022-03-02 |
公开(公告)号: | CN216995574U | 公开(公告)日: | 2022-07-19 |
发明(设计)人: | 魏晖 | 申请(专利权)人: | 合肥清溢光电有限公司 |
主分类号: | B65D25/10 | 分类号: | B65D25/10;B65D25/24 |
代理公司: | 合肥律众知识产权代理有限公司 34147 | 代理人: | 夏舜 |
地址: | 230000 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 匀胶铬版 涂胶 用治具 存储 装置 | ||
本实用新型公开了一种匀胶铬版涂胶用治具存储装置,包括存储箱和相对设置的支撑机构与扶版机构,支撑机构和扶版机构分别由治具的底部和顶部对薄板状的治具进行固定,并保持薄板状的治具呈直立状态放置;本实用新型的匀胶铬版涂胶用治具存储装置,解决现有技术中薄板状的匀胶铬版涂胶用治具存放混乱的问题。
技术领域
本实用新型属于匀胶铬版生产设备领域,更具体的说涉及一种匀胶铬版涂胶用治具存储装置。
背景技术
匀胶铬版是一种硬面光掩模材料,即光掩膜基版,它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射(SP)沉积上铬-氧化铬薄膜而形成铬膜基版,再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)或电子束抗蚀剂制成匀胶铬版。光掩膜基版是制作微细光掩膜图形的理想感光性空白板,通过光刻制版工艺可以获得所需光掩膜版。匀胶铬版具有高的感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨性好、易清洁处理、使用寿命长等特点,当前被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP、DOT等产品掩膜版的制作。
由于广泛的应用领域也就导致一台涂胶机需要能够对用不同尺寸的铬版涂胶功能,为此必然会使用到各尺寸的的铬版治具以达到生产要求,但是因为涂胶工艺的特殊性,各尺寸治具必须使用不锈钢材质,很多公司在存储这些之举是选择在现场堆叠在一起或者是使用收纳箱将其堆叠收纳,此种方法在后面使用中非常不便,经常需要上下翻找相应的尺寸治具用于生产,对生产效率大打折扣,同时还存在一定的安全风险。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种匀胶铬版涂胶用治具存储装置,解决现有技术中薄板状的匀胶铬版涂胶用治具存放混乱的问题。
本实用新型技术方案一种匀胶铬版涂胶用治具存储装置,包括存储箱和分别设置在存储箱的内底面与内顶面上的支撑机构和扶版机构,所述支撑机构和所述扶版机构相对设置,所述支撑机构和扶版机构分别由治具的底部和顶部对薄板状的治具进行固定,并保持薄板状的治具呈直立状态放置;
所述扶版机构包括沿存储箱深度方向固定在存储箱的内顶面上的若干限位条,所述限位条上沿存储箱宽度方向上均布设置有若干扶版槽,所述扶版槽宽度与薄板状的治具厚度相适应,所述扶版槽由薄板状的治具的两侧实现对治具进行限位;
所述支撑机构包括导向组件和限位组件,所述导向组件包括沿存储箱深度方向设置的若干导向轴,所述导向轴上沿存储箱宽度方向设置有若干导向滚轮,所述导向滚轮与所述扶版槽相对;所述限位组件由治具底部两侧对薄板状的治具进行限位。
优选地,所述限位组件包括沿存储箱深度方向设置的若干限位条,所述限位条上沿存储箱宽度方向设置有若干限位肩台,相邻两限位肩台之间距离小于导向滚轮长度,薄板状的治具由两限位肩台之间插入存储箱内,所述限位肩台朝向治具进入方向的侧面上设置有圆弧避让面;所述限位肩台的上表面高于导向管轮的导向面,限位条的上表面低于导向管轮的导向面。
优选地,所述存储箱的内底面上沿宽度方向设置有若干支撑枕块,所述支撑枕块高度大于导向管轮半径,所述支撑枕块与导向轴垂直且实现导向轴的支撑,所述支撑枕块用于隔离同一导向轴上相邻的两导向滚轮,所述限位条固定在所述支撑枕块上。
优选地,所述存储箱的深度大于治具沿存储箱在深度方向上的尺寸,在存储箱的内底面外边沿位置设置有用于标识治具型号的标签区。
优选地,所述存储箱的内背面设置有用于防止治具与存储箱的内背面的刚性碰撞的缓冲层,存储箱底部设置有确保存储箱保持水平放置状态的可调支撑脚;
所述可调支撑脚包括与存储箱底部固接的固定支撑螺杆和套设在所述固定支撑螺杆上的支撑盖,所述支撑盖横截面呈梯形,且顶面套设在固定支撑螺杆上。
优选地,所述存储箱为由若干不锈钢立柱和不锈钢板焊接而成的箱体,所述扶版机构、导向组件和限位组件均由呢龙材质制成。
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