[实用新型]一种电子材料清洗废水强化处理的装置

说明书

本实用新型涉及一种电子材料清洗废水强化处理的装置，属于废水处理技术领域，所述一级吸附过滤器通过管道与所述二级吸附过滤器相连，且所述一级吸附过滤器连通进水管线，所述进水管线连接原水箱，所述二级吸附过滤器连通出水管线，且所述出水管线的一端上接通第一反洗管线，所述第一反洗管线另一端接通一级吸附过滤器；本实用新型的第一级过滤是改性的氧化铝和氧化镁多孔球作为吸附过滤介质，第二级为有机聚合高分子与活性炭纤维复合微孔膜构成。依次对清洗废水中的二氧化硅、浊度实施净化，出水可以作为制备纯水用的原水，方便、简单实现废水的高阶回用，实现减少污染和节水的目的。

技术领域

本实用新型涉及废水处理技术领域，尤其涉及一种电子材料清洗废水强化处理的装置。

背景技术

随着电子行业半导体和芯片的快速发展，生产时需要的连续流动的超纯水以及生产时排放废水。通常的行业废水主要有含铜，镍，锡重金属废水以及含氟离子废水和切割研磨硅片产生的废水，采用分流单独处理针对这种废水的研究处理工艺并且合理回收利用方法取得良好效果，即可以大量的减少污水排放减轻和降低处理成本。全球的水资源紧缺和“双碳”背景驱动下，解决行业节约用水及排水深度处理与回用的难题急需关键实用的技术。回用水作为再生资源，是以后企业污水排放及利用的发展趋势。传统的混凝废水处理方法可以净化废水中的重金属离子、含氟离子和有机物等，目前大多企业运行的废水处理膜装置可以实现达标排放和低阶的废水回用，实现冷却水和绿化用水等，但是难以作为纯化水的制备原水，实现高端回用。清洗废水来源于磨板、水洗、电镀、洗缸等程序，占总水量的80％以上。其中主要问题是硅的含量高，而在电子行业中清洗用水中对各种杂质控制非常严格，过高的硅含量对于常规的纯水制备工艺会引起运行困难，出现硅垢等堵塞现象。为此，本发明设计了一种电子材料清洗废水强化处理的方法与装置，可以深度净化硅的含量、提高出水的浊度可以实现作为出水的制备等高端用水，而且实施方便。

实用新型内容

本实用新型克服了现有技术的不足，提供了一种电子材料清洗废水强化处理的装置。

为达上述目的，本实用新型采用的技术方案为：

本发明第一方面提供了一种电子材料清洗废水强化处理的装置，包括一级吸附过滤器以及二级吸附过滤器，

所述一级吸附过滤器通过管道与所述二级吸附过滤器相连，且所述一级吸附过滤器连通进水管线，所述进水管线连接原水箱，所述二级吸附过滤器连通出水管线，且所述出水管线的一端上接通第一反洗管线，所述第一反洗管线另一端接通一级吸附过滤器；

所述一级吸附过滤器的侧部还连接第二反洗管线，所述第二反洗管线的另一端接通原水箱；

所述原水箱上还设置有不合格管线，所述不合格管线还连接所述出水管线。

进一步的，本实用新型一个较佳实施例中，所述一级吸附过滤器的内部设置有若干改性的氧化铝或氧化镁的球吸附柱。

进一步的，本实用新型一个较佳实施例中，所述二级吸附过滤器的内部设置有高分子纤维以及活性炭纤维的复合微孔膜。

进一步的，本实用新型一个较佳实施例中，所述球吸附柱采用氧化钙为支撑骨架。

进一步的，本实用新型一个较佳实施例中，所述吸附球柱的耐压强度至少为0.8Mpa。

进一步的，本实用新型一个较佳实施例中，所述复合微孔膜的平均孔径为0.2微米。

进一步的，本实用新型一个较佳实施例中，所述球吸附柱的孔径分布在0.5mm以下的占有50％以上，0.5-1.0mm占40％以上。

进一步的，本实用新型一个较佳实施例中，所述进水管线、出水管线、第一反洗管线、第二反洗管线以及不合格管线上均设置有控制阀门。

进一步的，本实用新型一个较佳实施例中，所述一级吸附过滤器以及二级吸附过滤器中均设置有PH值检测传感器。