[实用新型]现场设备组件和介电绝缘系统有效
申请号: | 202220117522.X | 申请日: | 2022-01-17 |
公开(公告)号: | CN217544280U | 公开(公告)日: | 2022-10-04 |
发明(设计)人: | 安德鲁·约翰·瓦格纳;雅各布·丹尼尔·霍尔姆;悉尼·简·琼斯 | 申请(专利权)人: | 罗斯蒙特公司 |
主分类号: | H01B17/64 | 分类号: | H01B17/64;H01B17/56;G05B19/418 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 毕杨 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 现场 设备 组件 绝缘 系统 | ||
本实用新型公开了一种工业过程现场设备,所述工业过程现场设备包括压力传感器,以及包含所述压力传感器的壳体。所述壳体包括基部,所述基部具有基部接口和第一基部过程开口。凸缘附接到所述基部,并且包括具有第一凸缘过程开口的凸缘接口。所述第一凸缘过程开口处的压力通过所述第一基部过程开口传送到所述压力传感器。垫圈的第一垫圈过程开口与所述第一基部过程开口和所述第一凸缘过程开口对准。所述垫圈的第一表面接合所述基部接口,并且所述垫圈的第二表面接合所述凸缘接口。介电绝缘系统包括至少一个介电层,所述介电层使所述壳体与通过所述凸缘传导的电流绝缘。每个介电层包括陶瓷材料层、阳极化层、或塑料包覆模制件。
技术领域
本公开的实施方案涉及用于工业工厂的工业过程控制系统。更具体地,本公开的实施方案涉及向工业过程现场设备提供介电绝缘,以保护现场设备的电子器件免受例如通过过程接口进行的阴极保护方案的电流的影响。
背景技术
在工业环境中,控制系统用于监测和控制工业和化学过程的库存等。通常,控制系统使用分布在工业过程中的关键位置处并且通过过程控制回路联接到控制系统中的控制电路的工业过程现场设备来执行这些功能。术语“现场设备”是指在分布式控制或过程监测系统中执行功能的任何设备,包括在工业过程的测量、控制和/或监测中使用的当前已知或尚待了解的所有设备。
典型的现场设备包括使现场设备能够执行常规现场设备任务(诸如使用一个或多个传感器进行的过程参数监测和测量,和/或使用一个或多个控制设备进行的过程控制操作)的设备电路。示例性传感器包括压力传感器、电平传感器、温度传感器和工业过程中使用的其他传感器。示例性控制设备包括致动器、螺线管、阀和其他控制设备。
现场设备的设备电路还可包括控制器,该控制器用于控制传感器和/ 或控制设备,并且通过例如过程控制回路(诸如4mA-20mA过程控制回路) 与过程控制系统或其他电路通信。在一些安装中,过程控制回路用于将经调节的电流和/或电压递送到现场设备以用于为现场设备供电。过程控制回路还可以携带数据,诸如对应于所感测的过程参数的过程参数值。该数据可以作为模拟信号或作为数字信号通过过程控制回路传送。
阴极保护是在许多工业应用中使用的技术,其通过将金属结构制成电化学电池的阴极侧来保护金属结构诸如管道和罐体免受腐蚀。例如,大型管道结构可以使用外加电流阴极保护系统,其中该结构连接到DC电源。当这样的阴极保护方案在结构上实现时,有必要使联接到该结构的现场设备与该方案电绝缘,以保护现场设备的电子器件。
实用新型内容
本公开的实施方案包括具有介电绝缘系统的现场设备组件,以及用于工业过程现场设备组件中的介电绝缘系统。现场设备组件的一个实施方案包括工业过程现场设备,该工业过程现场设备包括压力传感器,以及包含压力传感器的壳体。壳体包括基部,该基部具有基部接口和第一基部过程开口。凸缘附接到基部,并且包括具有第一凸缘过程开口的凸缘接口。第一凸缘过程开口处的压力通过第一基部过程开口传送到压力传感器。垫圈的第一垫圈过程开口与第一基部过程开口和第一凸缘过程开口对准。垫圈包含接合基部接口的第一表面,以及与第一表面相对并且接合凸缘接口的第二表面。包括至少一个介电层的介电绝缘系统使壳体与通过凸缘传导的电流绝缘。至少一个介电层中的每一者包括陶瓷材料层、阳极化层、或塑料包覆模制件。
介电绝缘系统的一个实施方案包括具有金属主体和介电层的垫圈。介电层包括在金属主体的外表面或金属主体的阳极化外表面上的陶瓷涂层。
介电绝缘系统的另一个实施方案包括螺栓分隔件,该螺栓分隔件具有套筒部分、附接到套筒部分的端部的肩部、以及介电层。肩部的直径大于套筒部分的外径。介电层包括:陶瓷主体,该陶瓷主体形成套筒部分和肩部;用塑料材料包覆模制的陶瓷材料,该陶瓷材料形成肩部;具有阳极化外表面的金属主体,其中金属主体形成套筒部分和肩部;或在金属主体的外表面上具有陶瓷涂层的金属主体,其中金属主体形成套筒部分和肩部。
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