[发明专利]反应槽防结晶装置

权利要求书

1.一种反应槽防结晶装置，其特征在于，包括：

碳酸锂反应槽，所述碳酸锂反应槽的内壁上设置有液位传感器；

固定支架，所述固定支架设置在所述碳酸锂反应槽的开口处；

展旋式搅拌机，所述展旋式搅拌机设置在所述固定支架上，所述展旋式搅拌机的一端伸入所述碳酸锂反应槽内，用于对所述碳酸锂反应槽内的物料进行搅拌；

供料组件，所述供料组件包括浆液立管、浆液喷淋环管和提升机构，所述提升机构设置在所述固定支架的上方，所述浆液立管贯穿所述固定支架，所述浆液立管贯穿所述固定支架的部位设置有定位套管，所述浆液立管具有进料口，所述浆液立管位于所述固定支架上方的一端与所述提升机构连接，所述浆液立管位于所述碳酸锂反应槽内的一端与所述浆液喷淋环管连接，所述浆液喷淋环管与所述浆液立管连通；

控制器，所述控制器分别与所述液位传感器和所述提升机构电连接。

2.根据权利要求1所述的一种反应槽防结晶装置，其特征在于，所述展旋式搅拌机包括驱动电机、搅拌轴和展旋式搅拌叶片，所述驱动电机设置在所述固定支架上，所述搅拌轴的一端与所述驱动电机传动连接，所述搅拌轴的另一端贯穿所述固定支架伸入所述碳酸锂反应槽内，伸入所述碳酸锂反应槽内的所述搅拌轴上连接有所述展旋式搅拌叶片。

3.根据权利要求2所述的一种反应槽防结晶装置，其特征在于，所述展旋式搅拌叶片设置三个，三个所述展旋式搅拌叶片分别可移动的设置在所述搅拌轴上。

4.根据权利要求2所述的一种反应槽防结晶装置，其特征在于，所述固定支架上固定设置有安装底板，所述安装底板上设置有机架，所述驱动电机设置在所述机架上。

5.根据权利要求1所述的一种反应槽防结晶装置，其特征在于，所述提升机构包括提升固定支架和提升电动葫芦，所述提升固定支架设置在所述固定支架上，所述提升电动葫芦固定在所述提升固定支架上，所述浆液立管的上端与所述提升电动葫芦连接。

6.根据权利要求2所述的一种反应槽防结晶装置，其特征在于，所述固定支架内设有焊接法兰，所述焊接法兰上设有蒸汽进口，所述搅拌轴贯穿所述固定支架与所述焊接法兰连接，所述搅拌轴贯穿所述固定支架下端的接触部分设有水封。