[发明专利]化合物羟基氟化硼酸铷和羟基氟化硼酸铷非线性光学晶体及制备方法和用途

说明书

本发明提供一种化合物羟基氟化硼酸铷和羟基氟化硼酸铷非线性光学晶体及制备方法和用途，所述化合物的化学式为Rbsubgt;2/subgt;Bsubgt;3/subgt;Osubgt;3/subgt;Fsubgt;4/subgt;(OH)，分子量为344.38，采用水热法或室温溶液法制成，所述晶体化学式为Rbsubgt;2/subgt;Bsubgt;3/subgt;Osubgt;3/subgt;Fsubgt;4/subgt;(OH)，分子量为344.38，属于正交晶系，空间群为Ama2，晶胞参数为a=27.247(10)Å，b=23.042(9)Å，c=7.617(3)Å，α=90°，β=90°，γ=90°，单胞体积为4782.4(3)Åsupgt;3/supgt;,采用水热法或室温溶液法生长晶体，通过该方法获得的Rbsubgt;2/subgt;Bsubgt;3/subgt;Osubgt;3/subgt;Fsubgt;4/subgt;(OH)非线性光学晶体，紫外截止边低于200 nm，物化性能稳定，可作为短波长紫外非线性光学晶体在全固态激光器中获得应用。

技术领域

本发明涉及一种化合物羟基氟化硼酸铷及羟基氟化硼酸铷非线性光学晶体及制备方法和用途。

背景技术

紫外非线性光学晶体能够利用其频率转换性质将近红外、可见等波段的激光转换成紫外激光，在医疗、通讯、科学研究等领域具有重要应用价值。众所周知，目前实用化的紫外甚至深紫外非线性光学晶体包括我国科学家发明的KBe₂BO₃F₂(KBBF)晶体，BaB₂O₄(BBO)和LiB₃O₅(LBO)，然而这些晶体具有生长大尺寸晶体困难等缺陷，一定程度上限制了其应用。因此，制备合成综合性能优异的新型紫外非线性光学晶体材料具有重要意义和实用价值。

发明内容

本发明目的在于，提供一种化合物羟基氟化硼酸铷，该化合物的化学式为Rb₂B₃O₃F₄(OH)，分子量为344.38，采用水热法或室温溶液法制备。

本发明的另一个目的在于，提供羟基氟化硼酸铷Rb₂B₃O₃F₄(OH)非线性光学晶体，该晶体的化学式为Rb₂B₃O₃F₄(OH)，分子量为344.38。其晶体结构属于正交晶系，空间群为Ama2，晶胞参数为α＝90，β＝90，γ＝90，单胞体积为

本发明又一个目的在于提供羟基氟化硼酸铷非线性光学晶体的制备方法，采用水热法或室温溶液法生长晶体。

本发明再一个目的是提供羟基氟化硼酸铷Rb₂B₃O₃F₄(OH)非线性光学晶体的用途。

本发明所述的一种化合物羟基氟化硼酸铷，该化合物的化学式为Rb₂B₃O₃F₄(OH)，分子量为344.38，采用水热法或室温溶液法制成。

所述的化合物羟基氟化硼酸铷的制备方法，采用水热法或室温溶液法制备，具体操作按下列步骤进行：

所述水热合成法制备化合物羟基氟化硼酸铷：