[发明专利]界面显示优化方法、装置及存储介质在审
申请号: | 202211536694.1 | 申请日: | 2022-12-01 |
公开(公告)号: | CN115712479A | 公开(公告)日: | 2023-02-24 |
发明(设计)人: | 汪林;何杰 | 申请(专利权)人: | 深圳市紫光同创电子有限公司 |
主分类号: | G06F9/451 | 分类号: | G06F9/451;G06F3/14 |
代理公司: | 深圳市智圈知识产权代理事务所(普通合伙) 44351 | 代理人: | 苗燕 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区粤海*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 界面 显示 优化 方法 装置 存储 介质 | ||
本申请公开了一种界面显示优化方法、装置及存储介质,该方法包括:响应器件组件移动指令后,获取新增区域;其中,新增区域指示用于绘制器件组件的图像相对于系统界面的错位区域;基于新增区域,更新子线程的绘制区域,子线程将对应的器件组件绘制于图像;其中,绘制区域指示在系统界面内子线程需要在图像中绘制器件组件的区域;主线程将绘制的图像绘制于图层,形成界面视图。由此,当用户移动器件组件时,将新增区域更新到子线程的绘制区域内,子线程基于更新后的绘制区域重新创建并绘制图像,子线程基于整合后的绘制区域绘制图像,且主线程与子线程相互配合,从而减少子线程整体绘制的时间。
技术领域
本申请涉及集成电路软件工具技术领域,更具体地,涉及一种界面显示优化方法、装置及存储介质。
背景技术
DEVICE软件是用于硅基光电子结构设计、分析和优化的超强半导体器件,可以应用于各种各样的以硅为基础的半导体器件的电气特性表征,不仅专注于包括复杂光激励的器件,同时也擅长传统光电子和纯粹电子器件的建模。随着芯片技术的发展及用户设计信息越来越复杂,DEVICE软件中的界面需要显示的图形也越来越复杂,当用户对界面进行连续移动或缩放等界面操作时,需要界面响应快,否则会出现界面卡顿的情况。
在相关的界面响应优化技术中,通常通过控制用户绘图次数,例如限制界面缩放次数或界面更新次数等操作,或者通常采用同步画图、多层级画图、Region画图或多线程同步画图来改进界面响应速度,然而系统视图显示速度均出现不同程度缓慢的情况,且当用户进行连续移动的界面操作时,系统视图显示速度出现不同程度卡顿的情况,造成用户使用感较差。
发明内容
鉴于上述问题,本发明提出了一种界面显示优化方法、装置及存储介质,不仅可以有效提高系统视图显示速度,还可以有效改善用户使用感。
第一方面,本申请实施例提供了一种界面显示优化方法,该方法包括:响应器件组件移动指令后,获取新增区域;其中,所述新增区域指示用于绘制器件组件的图像相对于系统界面的错位区域;基于所述新增区域,更新子线程的绘制区域,子线程将对应的器件组件绘制于图像;其中,绘制区域指示在系统界面内子线程需要在图像中绘制器件组件的区域;主线程将绘制的图像绘制于图层,形成界面视图。
第二方面,本申请实施例还提供了一种界面显示优化装置,该装置包括:区域确定模块,用于响应器件组件移动指令后,获取新增区域;其中,所述新增区域指示用于绘制器件组件的图像相对于系统界面的错位区域;图像绘制模块,用于基于所述新增区域,更新子线程的绘制区域,子线程将对应的器件组件绘制于图像;其中,绘制区域指示子线程在图像需要绘制器件组件的区域;图层绘制模块,用于主线程将绘制的图像绘制于图层,形成界面视图。
第三方面,本申请实施例还提供了一种计算机可读取存储介质,计算机可读取存储介质中存储有程序代码,其中,在程序代码被处理器运行时执行上述界面显示优化方法。
本发明提供的技术方案,具体包括:响应器件组件移动指令后,获取新增区域;其中,新增区域指示用于绘制器件组件的图像相对于系统界面的错位区域;基于新增区域,更新子线程的绘制区域,子线程将对应的器件组件绘制于图像;其中,绘制区域指示在系统界面内子线程需要在图像中绘制器件组件的区域;主线程将绘制的图像绘制于图层,形成界面视图。由此,当用户移动器件组件时,将新增区域更新到子线程的绘制区域内,子线程基于更新后的绘制区域重新创建并绘制图像,子线程基于整合后的绘制区域绘制图像,且主线程与子线程相互配合,从而减少子线程整体绘制的时间。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,而不是全部的实施例。基于本申请实施例,本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例及附图,都属于本发明保护的范围。
图1示出了本申请实施例提供的界面显示优化方法的流程示意图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市紫光同创电子有限公司,未经深圳市紫光同创电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202211536694.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种塑料电镀多层镍的回收方法
- 下一篇:一种新能源多能互补智能控制系统