[发明专利]一种溶液等离子体原位合成羟基氧化物的制备方法

权利要求书

1.一种溶液等离子体原位合成羟基氧化物的制备方法，其特征在于，所述的制备方法为：将泡沫镍超声清洗、真空干燥后，置于去离子水中进行等离子体处理，干燥后，得所述的羟基氧化物。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，

所述的超声清洗过程为：将泡沫镍依次采用丙酮、盐酸、乙醇、去离子水进行清洗。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，

所述的清洗时间为12-18min；

所述的真空干燥的温度为55-65℃，时间为10-14h。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，

所述的清洗时间为15min；

所述的真空干燥的温度为60℃，时间为12h。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，

所述的等离子体处理的步骤为：将泡沫镍置于装好去离子水的反应器中，确保电极处于气液界面处，调节反应器内电极间隙；将反应器、示波器与电源连接；接通电源，通过调节放电参数产生等离子体后，进行连续稳定放电。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，

所述的泡沫镍置于装好去离子水的反应器中，距离电极的距离不低于2cm；

所述的反应器内电极间隙为1mm，电极处于气液界面为溶液没过电极5mm内。

7.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，

所述的电极为铁电极、或钴电极、或镍电极、或铜电极，纯度不低于99％。

8.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，

所述的电源为脉冲电源。

9.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，

所述的连续放电时间为25-35min，电压为10-14KV。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，

所述的连续放电时间为30min，电压为12KV。