[发明专利]微弧氧化电解液和反应堆锆合金表面涂层的制备方法

权利要求书

1.一种微弧氧化电解液，其特征在于，包括溶剂和电解质，其中：所述溶剂的电导率为0～5μs/cm；所述电解质包括氢氧化锂和硼酸锂，所述氢氧化锂的浓度为3～10g/L，所述硼酸锂的浓度为3～10g/L。

2.根据权利要求1所述的微弧氧化电解液，其特征在于，所述溶剂的电导率为0.5～3μs/cm；优选地，所述溶剂为纯水。

3.一种反应堆锆合金表面涂层的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

对反应堆锆合金表面进行预处理，使得反应堆锆合金表面的粗糙度Ra0.5μm；将锆合金作为阳极，不锈钢槽作为阴极，权利要求1-3任一项所述的微弧氧化电解液作为电解液，对所述反应堆锆合金表面进行微弧氧化处理10～30min，在所述反应堆锆合金表面得到涂层。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，在对所述反应堆锆合金表面进行微弧氧化处理中，采用脉冲电源放电模式对所述反应堆锆合金表面进行微弧氧化处理。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，采用所述脉冲电源放电模式对所述反应堆锆合金表面进行微弧氧化处理中，脉冲电源平均电流密度3～10A/dm²，脉冲频率500～1000Hz，占空比5～10％。

6.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述微弧氧化电解液的温度为15～30℃。

7.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，对所述反应堆锆合金表面进行微弧氧化处理中，对所述微弧氧化电解液进行循环冷却搅拌。

8.根据权利要求4-7任一项所述的制备方法，其特征在于，所述涂层的厚度为3～10μm。