[发明专利]一种Gibbs-Wulff光学涡旋阵列掩模版的设计方法

权利要求书

1.一种Gibbs-Wulff光学涡旋阵列掩模版的设计方法，其特征在于：步骤如下：

S1、获取Gibbs-Wulff光学涡旋阵列的电场表达式：

其中，(x,y)是空间光调制器SLM平面的笛卡尔坐标系，是SLM平面的极坐标系，N为Gibbs-Wulff光学涡旋阵列中涡旋的个数，k是波数，l是涡旋的拓扑荷值，n和α分别为锥透镜的折射率和锥角，S为Gibbs-Wulff光学涡旋阵列中每个涡旋的位置矩阵；

S2、结合Gibbs-Wulff光学涡旋阵列的振幅、相位与一个闪耀光栅，得到所述Gibbs-Wulff光学涡旋阵列掩模版的复透过率函数，其复透过率函数具体表达式为：

t＝|H₀(x,y)|exp[j(angle(H(x,y))+P₀)]

其中，||表示对复振幅求模，H₀(x,y)＝H(x,y)·T，T为宏像素的相位调制函数，angle()为求角向函数；

S3、基于该复透过率函数所描述的掩模版即为所述的Gibbs-Wulff光学涡旋阵列掩模版。

2.根据权利要求1所述的一种Gibbs-Wulff光学涡旋阵列掩模版的设计方法，其特征在于：所述闪耀光栅的相位表达式为：P₀＝2πx/d，其中d为闪耀光栅的周期。