[发明专利]一种基于H2

权利要求书

1.一种基于H₂O₂氧化的多孔二氧化钛纳米薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：将纯钛箔进行化学抛光预处理；

步骤2：量取H₂O₂并调整该溶液的pH值；

步骤3：将预处理好的钛箔加入上述溶液中，置于30℃～100℃的反应环境中或在高温高压条件下，控制反应时间，得到溶胶状悬浮物；

步骤4：将反应后的钛箔取出进行超声处理；

步骤5：将步骤4得到的钛箔迅速升温后再自然冷却退火，得到结构稳定的多孔TiO₂纳米薄膜材料。

2.根据权利要求1所述的一种基于H₂O₂氧化的多孔二氧化钛纳米薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤1中以5％wt HNO₃与0.05％wt HF的混合液对钛箔进行化学抛光预处理。

3.根据权利要求2所述的一种基于H₂O₂氧化的多孔二氧化钛纳米薄膜的制备方法，其特征在于，将预处理后的钛箔依次用分析纯的丙酮、乙醇、去离子水超声清洗10min～15min，并用冷风吹干。

4.根据权利要求1所述的一种基于H₂O₂氧化的多孔二氧化钛纳米薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤2中H₂O₂质量分数为5％～30％，pH值为2～11之间。

5.根据权利要求1所述的一种基于H₂O₂氧化的多孔二氧化钛纳米薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤3中的高温高压条件为70℃～180℃聚四氟内衬的不锈钢反应釜，反应时间为2h～24h。

6.根据权利要求1所述的一种基于H₂O₂氧化的多孔二氧化钛纳米薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤4中将钛箔放入0.05％wt的HF水溶液中超声处理10s～120s。

7.根据权利要求1所述的一种基于H₂O₂氧化的多孔二氧化钛纳米薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤5中将上述钛箔置于马弗炉中，在室温下以1～2℃/min的速率升温至450℃～750℃，保温3h～4h至自然冷却。

8.一种如权利要求1-7任一项方法所制备的基于H₂O₂氧化的多孔二氧化钛纳米薄膜。

9.根据权利要求8所述的一种基于H₂O₂氧化的多孔二氧化钛纳米薄膜，其特征在于，

所述TiO₂纳米薄膜材料表面的零维纳米量子点尺寸为4nm～20nm；

所述TiO₂纳米薄膜材料表面的一维纳米棒直径为4nm～50nm；

所述TiO₂纳米薄膜材料表面的三维纳米片厚度为10nm～30nm；

所述TiO₂纳米薄膜材料表面的三维纳米棒“丛”、纳米“花”、纳米片、纳米纤维表面均匀分布TiO₂量子点尺寸为4nm～20nm。

10.一种如权利要求1-7任一项方法所制备的基于H₂O₂氧化的多孔二氧化钛纳米薄膜在光、电催化降解推进剂废水处理中的应用。