[发明专利]一种基于伴随法的平面光交叉波导

权利要求书

1.一种基于伴随法的平面光交叉波导，包括波导层和波导外围，所述波导外围位于波导层的外部，其特征在于：所述波导层呈十字结构，由中心波导和四个分支波导组成，四个所述分支波导分别位于中心波导的四周；所述分支波导的轮廓由若干个关键结点拟合成的光滑曲线构成；构成光滑曲线的关键结点在沿光传播方向上呈等距离分布；构成光滑曲线的关键结点在垂直于光传播方向上通过伴随法进行距离优化；所述光滑曲线由关键结点通过线性连接或样条插值法拟合而成。

2.如权利要求1所述的一种基于伴随法的平面光交叉波导，其特征在于：所述波导层的材料折射率大于波导外围的材料折射率。

3.如权利要求2所述的一种基于伴随法的平面光交叉波导，其特征在于：所述波导层的材料为硅，所述波导外围的材料为二氧化硅。

4.如权利要求1所述的一种基于伴随法的平面光交叉波导，其特征在于：所述分支波导的横截面为上下宽度一致的条形波导。

5.如权利要求1所述的一种基于伴随法的平面光交叉波导，其特征在于：所述分支波导的横截面为上下宽度不一致的脊型波导。

6.如权利要求1所述的一种基于伴随法的平面光交叉波导，其特征在于：所述分支波导的端口宽度小于中心波导的宽度。

7.如权利要求1所述的一种基于伴随法的平面光交叉波导，其特征在于：相邻另个交叉波导之间设有垂直过度区。

8.如权利要求1所述的一种基于伴随法的平面光交叉波导，其特征在于：所述波导层在水平方向和垂直方向均具有轴对称性质。

9.一种光学装置，其特征在于：所述光学装置包括本体和权利要求1-6任一项所述的一种基于伴随法的平面光交叉波导，其中，所述一种基于伴随法的平面光交叉波导设于所述本体上。