[发明专利]一种离子源装置及质谱仪

权利要求书

1.一种离子源装置，包括离子源腔室、雾化器组件、至少两个辅助气进气组件、雾化器组件安装座、排气口、采样锥；其特征在于，

沿着采样锥的中轴线方向，雾化器组件、辅助气进气组件、排气口、采样锥依次设置，且所述雾化器组件、所述辅助气进气组件、所述排气口均不经过所述采样锥的中轴线，并分别连通离子源腔室内部与外部的空间；

所述雾化器组件安装座设置在离子源腔室顶壁外侧，所述雾化器组件通过雾化器组件安装座可拆卸安装于离子源腔室顶壁；所述雾化器组件始终以第一倾斜角度α从上向下向离子源腔室注入喷雾；

所述至少两个辅助气进气组件对称设置于所述离子源腔室的顶壁两侧或者对称设置于所述离子源腔室的两个侧壁；所述辅助气进气组件始终以第二倾斜角度β从上向下向离子源腔室注入辅助气体；

所述排气口设置于所述离子源腔室的底板。

2.如权利要求1所述的一种离子源装置，其特征在于，所述第一倾斜角度α是指雾化器组件与竖直方向的夹角，所述第一倾斜角度α为15°-35°；和/或，所述第二倾斜角度β是指辅助气进气组件与竖直方向的夹角，所述第二倾斜角度β为30°-60°。

3.如权利要求1或2所述的一种离子源装置，其特征在于，所述雾化器组件至少包括雾化针、雾化针固定座和进样管锁紧套。

4.如权利要求3所述的一种离子源装置，其特征在于，所述雾化针包括位于芯部的雾化喷针、套设在雾化喷针外部的雾化气管、套设在雾化气管下部的金属导热、套设在雾化气管上部的陶瓷隔热管。

5.如权利要求1或2所述的一种离子源装置，其特征在于，所述辅助气进气组件至少包括辅助气进气组件固定座、辅助气加热管和进气管。

6.如权利要求1或2所述的一种离子源装置，其特征在于，所述辅助气进气组件的数量为2个，2个所述辅助气进气组件的辅助气加热管的中轴线所确定的平面M1的法线与所述采样锥的中轴线之间的夹角γ为0°-5°。

7.如权利要求6所述的一种离子源装置，其特征在于，所述采样锥到所述平面M1的距离为d1，d1的范围为8-20mm；和/或，所述排气口到所述平面M1的距离为d2，d2的范围为5-15mm。

8.如权利要求7所述的一种离子源装置，其特征在于，d1＞d2，且d1、d2的值是固定不变的。

9.如权利要求1或2所述的一种离子源装置，其特征在于，所述离子源装置还包括第一调节组件，所述第一调节组件用于调节所述雾化器组件沿第一方向靠近或远离所述采样锥运动。

10.如权利要求9所述的一种离子源装置，其特征在于，所述离子源装置还包括第二调节组件，所述第二调节组件用于调节所述雾化器组件或雾化针沿所述雾化针的中轴线向方向靠近或远离所述采样锥运动。

11.如权利要求9或10所述的一种离子源装置，其特征在于，所述雾化针的出口到所述平面M1的距离为d3，d3的范围为2-10mm；和/或，所述雾化针的出口到所述采样锥的中轴线的距离为d4，d4的范围为2-15mm。

12.如权利要求11所述的一种离子源装置，其特征在于，通过调节第一调节组件可以使得d3在2-10mm的范围内变化；通过调节第二调节组件可以使得d4在2-15mm的范围内变化。

13.如权利要求1或2所述的一种离子源装置，其特征在于，所述雾化器组件选自ESI雾化器组件、APCI雾化器组件中的一种。

14.如权利要求1或2所述的一种离子源装置，其特征在于，所述雾化器组件的雾化针的中轴线与所述采样锥的中轴线之间的距离小于等于采样锥锥孔的半径。