[发明专利]单通道太赫兹成像光学系统

说明书

本申请公开了一种单通道太赫兹成像光学系统，包括成像单元，设置在单通道的第一侧；第一反射镜，设置在单通道的第一侧；第二反射镜，设置在单通道的第二侧，第二反射镜可绕第一轴旋转以控制第二反射镜的入射区域在入口端和出口端之间摆动，第二反射镜可绕第二轴旋转以控制第二反射镜的入射区域在单通道的顶部和底部之间摆动；其中，第二反射镜用于采集第一信息并将第一信息反射至第一反射镜，第一反射镜用于将接收到的第一信息反射至成像单元成像。本申请通过单探测阵列能够实现高效的全角度人体成像，有效降低了成本；能实现动态扫描检测，大大提高了安检速度，适用于人员密集混杂的大型活动场所。

技术领域

本申请属于太赫兹成像技术领域，具体涉及一种单通道太赫兹成像光学系统。

背景技术

安检方式主要有金属探测门、手动人工安检、X-光安检机以及近年来快速发展的毫米波太赫兹人体安检。金属探测门容易漏检非金属物质；手动人工安检对人体的直接接触容易引发隐私纠纷；X-光安检机对人体具有潜在的危害性。毫米波太赫兹人体安检采用的是光子能量更低的电磁波，对人体的伤害非常小，同时又能规避金属探测门、手动人工安检的一些弊端。

但是，目前毫米波安检装置的缺点在于成本过高和安检速度慢，特别是为了满足对人体前后侧面全息成像的效果，毫米波安检系统都为两套检测系统相对放置，从而实现单通道安检通道的组合，因此成本高，并且安检速度无法满足高峰期安检速度的要求；另外一些设备采用阵列相干成像，接收设备过多，也造成了成本较高。特别地，现有毫米波太赫兹安检装置需要人员保持一定时间的静止状态来实现扫描安检，对于人员密集混杂的大型活动场所，严重影响了安检效率。

发明内容

本申请的目的在于提供一种单通道太赫兹成像光学系统，以解决现有技术中的毫米波太赫兹安检装置存在的成本较高、安检速度慢，需要人员保持静止进行扫描安检，对于人员密集混杂的大型活动场所，严重影响了安检效率的技术问题。

为了实现上述目的，本申请采用的技术方案是：

提供一种单通道太赫兹成像光学系统，应用至一单通道上，所述单通道包括位于长度方向两端的入口端和出口端、位于宽度方向两侧的第一侧和第二侧以及位于高度方向两端的顶部和底部，所述单通道太赫兹成像光学系统包括：

成像单元，设置在所述单通道的所述第一侧；

第一反射镜，设置在所述单通道的所述第一侧；

第二反射镜，设置在所述单通道的所述第二侧，所述第二反射镜可绕第一轴旋转以控制第二反射镜的入射区域在所述入口端和所述出口端之间摆动，所述第二反射镜可绕第二轴旋转以控制第二反射镜的入射区域在所述单通道的顶部和底部之间摆动；

其中，所述第二反射镜用于采集第一信息并将第一信息反射至所述第一反射镜，所述第一反射镜用于将接收到的所述第一信息反射至所述成像单元成像。

在一个或多个实施方式中，所述第二反射镜用于在入射区域位于所述入口端或出口端时绕所述第二轴旋转以采集所述第一信息。

优选的，所述第二反射镜的入射区域每秒在所述入口端和出口端间切换25～35次。

在一个或多个实施方式中，所述第二反射镜的中心与所述入口端和出口端的垂直距离相等。

在一个或多个实施方式中，所述第一反射镜的中心与所述入口端和出口端的垂直距离相等，且第一反射镜的法向与所述长度方向形成45°角。

在一个或多个实施方式中，所述第二反射镜的法向与所述宽度方向形成的最大角θ满足tan2θ＝L/W，其中L为所述单通道的长度的一半，W为所述第二反射镜中心与所述单通道的长度方向中心轴的垂直距离。

在一个或多个实施方式中，所述第二反射镜绕所述第二轴旋转时，所述第二反射镜的法向与水平方向形成的最大角满足下式：